申请/专利权人：上海微崇半导体设备有限公司

申请日：2022-10-08

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117889742A

主分类号：G01B11/00

分类号：G01B11/00

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.16#公开

摘要：本发明提出的测试片及应用该测试片进行光学测量的装置和方法，不仅解决了空间受限的情况下光束参数测试的难题，而且在光线透射和不透射的两种情况下均能使用，还进一步提高了光斑测量的精度，准确的得出汇聚光束的最小光斑尺寸，尤为难得的是，还能同时获得待测光束的三维尺寸、瑞利范围等参数，并由此判断光束的质量。此外，本发明提出的技术方案的成本相对现有技术极为低廉，且易于通过对现有装置进行改造从而实现本发明的技术方案，以相对较低的成本获得技术上的升级。对样品表面缺陷检测设备而言，汇聚光斑尺寸直接决定了照射到待检测样品功率密度大小，从而影响了检测信号。通过精确测量光束参数，可以大大提高产品测量的精度和准确度。

主权项：1.一种测试片，其特征在于，所述测试片包括：M个测试区域；M≥1；每个所述测试区域有预设的待测光斑尺寸；每个所述测试区域包括2个以上的测试图案；当光束照射到所述测试图案上时，能够发生镜面反射；同属于一个所述测试区域的所述测试图案的尺寸相同，且相邻的所述测试图案的反射率不同；所述尺寸包括长度、宽度、高度；以第i个所述测试区域的所述测试图案的平面尺寸为Ai，以所述第i个所述测试区域的所述待测光斑尺寸为Bi，则应满足Ai＞Bi；1≤i≤M。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海微崇半导体设备有限公司 一种测试片及应用其进行光学测量的装置和方法

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