申请/专利权人：同济大学

申请日：2023-11-03

公开（公告）日：2024-03-01

公开（公告）号：CN117629566A

主分类号：G01M9/06

分类号：G01M9/06;B05B1/00;B05B1/14

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.19#实质审查的生效;2024.03.01#公开

摘要：本发明涉及一种用于方柱绕流测试的均匀射流设备，设置于空心方柱1内，所述射流设备包括：射流块2，所述射流块2内开设有多个独立的气体扩散通道3；多个进气口4，每个进气口4分别与一个气体扩散通道3的一端连接。与现有技术相比，本发明通过在射流块内开设多个独立的气体扩散通道，使得射流块射出的气流更加均匀，解决或部分解决了方柱扰流测试中射流狭缝的中心到边缘有明显的速率不均匀的问题，均匀排布的多管道改善了射流狭缝中心到边缘的速率分布，从而更好地控制整个射流的速度以及直观地获取不同速度射流对方柱绕流的影响。

主权项：1.一种用于方柱绕流测试的均匀射流设备，其特征在于，设置于空心方柱1内，所述射流设备包括：射流块2，所述射流块2内开设有多个独立的气体扩散通道3；多个进气口4，每个进气口4分别与一个气体扩散通道3的一端连接。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 同济大学 一种用于方柱绕流测试的均匀射流设备

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