申请/专利权人：四川大学

申请日：2023-12-06

公开（公告）日：2024-03-05

公开（公告）号：CN117649863A

主分类号：G11B7/241

分类号：G11B7/241;G11B7/2533;G11B7/257;G16C60/00;G16C20/30

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.22#实质审查的生效;2024.03.05#公开

摘要：本发明公开了一种含POSS纳米材料的光致聚合物全息存储材料、制备方法及应用，按照质量份数计包括以下组分：25～50份的成膜剂，5～25份的单体丙烯酰胺，1～10份的亚甲基双丙烯酰胺，0.1～1份的多面体齐聚倍半硅氧烷POSS，0.01～0.1份的光敏剂，1～10份的单体丙烯酸，0.1～2份的三乙醇胺。通过在聚乙烯醇丙烯酰胺体系中掺杂POSS纳米材料并进行配比，显著改善了材料的体积收缩率，同时保持了原材料体系的高衍射效率、高感光灵敏度、高空间分辨率等性能指标，在全息显示、全息存储、干涉计量等领域有良好的应用价值。

主权项：1.一种含POSS纳米材料的光致聚合物全息存储材料，其特征在于，按照质量份数计包括以下组分：25～50份的成膜剂，5～25份的单体丙烯酰胺，1～10份的亚甲基双丙烯酰胺，0.1～1份的多面体齐聚倍半硅氧烷POSS，0.01～0.1份的光敏剂，1～10份的单体丙烯酸，0.1～2份的三乙醇胺。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 四川大学 含POSS纳米材料的光致聚合物全息存储材料、制备方法及应用

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