申请/专利权人：中央硝子株式会社

申请日：2019-03-05

公开（公告）日：2024-03-12

公开（公告）号：CN111886674B

主分类号：H01L21/302

分类号：H01L21/302;C01B7/24;H01L21/205;H01L21/3065

优先权：["20180329 JP 2018-065433"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.12#授权;2020.11.20#实质审查的生效;2020.11.03#公开

摘要：本发明的目的在于，提供蚀刻速度快且偏差的抑制优异的基板处理用气体、保管其的保管容器和基板处理方法。本发明的基板处理用气体含有IF5和IF7，IF5的含量相对于IF7整体以体积基准计为1ppm以上且2％以下。

主权项：1.一种基板处理用气体，其含有IF5和IF7，所述IF5的含量相对于所述IF5与所述IF7的总计以体积基准计为1ppm以上且2％以下。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中央硝子株式会社 基板处理用气体、保管容器和基板处理方法

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