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【发明公布】高耐磨、低色差、可弯折防反射膜及其制备方法_江苏斯迪克新材料科技股份有限公司;太仓斯迪克新材料科技有限公司_202311582417.9 

申请/专利权人:江苏斯迪克新材料科技股份有限公司;太仓斯迪克新材料科技有限公司

申请日:2023-11-24

公开(公告)日:2024-03-15

公开(公告)号:CN117700794A

主分类号:C08J7/04

分类号:C08J7/04;C08J7/046;C08L67/02;C09D175/14;C09D7/62

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开

摘要:本发明公开了一种高耐磨、低色差、可弯折防反射膜及其制备方法,该防反射膜包括基膜、形成在所述基膜上的高折射率层和形成在所述高折射率层上的低折射率层;所述低折射率层通过涂布低折射率涂料后经干燥、光固化后得到,所述低折射率涂料包括以下原料组分:低折射率树脂、活性稀释单体、改性中空二氧化硅纳米粒子、含氟丙烯酸酯改性实心纳米耐磨粒子、第一光引发剂和第一助剂。本发明能够解决现有防反射膜制备中易出现红紫相间整体看起来呈现为不太均匀的蓝色等情况而造成现有显示器表面容易产生色差大和炫目的难题,该防反射膜的Lab颜色空间中的b*值的绝对值为4或更小。

主权项:1.一种高耐磨、低色差、可弯折防反射膜,其特征在于,包括基膜、形成在所述基膜上的高折射率层和形成在所述高折射率层上的低折射率层;所述低折射率层由低折射率涂料的固化物形成,所述低折射率涂料包括以下原料组分:低折射率树脂、活性稀释单体、改性中空二氧化硅纳米粒子、含氟丙烯酸酯改性实心纳米耐磨粒子、第一光引发剂和第一助剂;所述低折射率树脂、活性稀释单体、改性中空二氧化硅纳米粒子、含氟丙烯酸酯改性实心纳米耐磨粒子的添加量依次为低折射率涂料固体组分总质量的30-50%、5-15%、30-50%、10-25%;所述低折射率涂料固体组分为低折射率树脂、活性稀释单体、改性中空二氧化硅纳米粒子、含氟丙烯酸酯改性实心纳米耐磨粒子的总和。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司;太仓斯迪克新材料科技有限公司 高耐磨、低色差、可弯折防反射膜及其制备方法

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