申请/专利权人：华中科技大学

申请日：2023-12-04

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN117704976A

主分类号：G01B11/06

分类号：G01B11/06;G01N21/45;G01Q60/24

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开

摘要：本发明公开了一种基于白光干涉与白光原子力扫描技术的薄膜厚度与折射率测量方法，包括：S1：获取白光干涉测量模式下，薄膜介质衬底上表面以及薄膜下表面形貌分布；S2：获取白光原子力扫描模式下，薄膜介质衬底上表面以及薄膜上表面形貌分布；S3：基于所述白光原子力扫描模式下获得的形貌分布，对所述白光干涉测量模式下获得的形貌分布标定与校正，获得薄膜厚度和折射率。本发明的于白光干涉与白光原子力扫描技术的薄膜厚度与折射率测量方法，通过结合扫描白光干涉技术测量原理与等效光程原理，完成扫描白光干涉数据标定与校正，得出薄膜材料折射率N。

主权项：1.一种基于白光干涉与白光原子力扫描技术的薄膜厚度与折射率测量方法，其特征在于，包括：S1：获取白光干涉测量模式下，薄膜介质衬底上表面以及薄膜下表面形貌分布；S2：获取白光原子力扫描模式下，薄膜介质衬底上表面以及薄膜上表面形貌分布；S3：基于所述白光原子力扫描模式下获得的形貌分布，对所述白光干涉测量模式下获得的形貌分布标定与校正，获得薄膜厚度和折射率。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 华中科技大学 一种基于白光干涉与白光原子力扫描技术的薄膜厚度与折射率测量方法和系统

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