申请/专利权人：深圳方正微电子有限公司

申请日：2021-06-23

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN113471105B

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/306

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.15#授权;2021.10.26#实质审查的生效;2021.10.01#公开

摘要：本发明涉及一种湿法蚀刻机台辅助补药系统，包括：补药控制器；换药信号获取单元，用于在获取到湿法蚀刻机台的换药信号时，使补药控制器停止动作；传感器，与补药控制器连接，并设于量杯中，用于检测量杯的液位；其中，补药控制器用于定时向湿法蚀刻机台的控制器发送碱液入量杯信号以使湿法蚀刻机台的控制器控制量杯中进碱液；补药控制器还用于在第一传感器检测到量杯达到第一液位时，向湿法蚀刻机台的控制器发送碱液入药槽信号以使湿法蚀刻机台的控制器控制量杯向药槽排碱液，并使量杯停止进碱液。本发明外挂于湿法蚀刻机台，在不更改管路和执行元器件情况下，通过外控电路实现自动补药功能，维持药槽药液浓度，从而提升工艺稳定性。

主权项：1.一种湿法蚀刻机台辅助补药系统，用于对湿法蚀刻机台进行补药控制，其特征在于，包括：补药控制器；换药信号获取单元，与所述补药控制器和所述湿法蚀刻机台的控制器连接，用于在获取到湿法蚀刻机台的换药信号时，使所述补药控制器停止动作；第一传感器，与所述补药控制器连接，并设于所述湿法蚀刻机台的第一容器中，用于检测所述第一容器的液位；其中，所述补药控制器用于定时向所述湿法蚀刻机台的控制器发送碱液入第一容器信号以使所述湿法蚀刻机台的控制器控制所述第一容器中进碱液；所述补药控制器还用于在所述第一传感器检测到所述第一容器达到第一液位时，向所述湿法蚀刻机台的控制器发送碱液入药槽信号以使所述湿法蚀刻机台的控制器控制所述第一容器向所述药槽排碱液，并使所述第一容器停止进碱液。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳方正微电子有限公司 湿法蚀刻机台辅助补药系统及湿法蚀刻系统

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