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【发明公布】高羟值低环体含量的有机硅助剂的制备方法_江西蓝星星火有机硅有限公司_202311778523.4 

申请/专利权人:江西蓝星星火有机硅有限公司

申请日:2023-12-22

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN117720729A

主分类号:C08G77/08

分类号:C08G77/08

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要:本发明涉及高羟值低环体含量的有机硅助剂的制备方法,其中,所述制备方法包括以下步骤:S100、在10~30℃的起始温度下和在碱性催化剂存在下,使二烷基二烷氧基硅烷和水进行水解,经过滤回收催化剂,得到乳白色混合液;S200、使步骤S100中得到的乳白色混合液进行减压蒸馏至变为透明,得到有机硅助剂;其中,所述碱性催化剂选自氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化镁、氢氧化钙、氧化钠、氧化钾、氧化镁、氧化钙和碱性离子树脂,所述二烷基二烷氧基硅烷与水的摩尔比为1:3‑10。本发明的制备方法制备的有机硅助剂具有低的环体和水含量,羟值高,并且易于操作、产率高,合成过程安全性高,催化剂可以二次利用,并且工艺过程简单,绿色环保,具有工业推广价值。

主权项:1.高羟值低环体含量有机硅助剂的制备方法,其中,所述制备方法包括以下步骤:S100、在10~30℃的起始温度下和在碱性催化剂存在下,使二烷基二烷氧基硅烷和水进行水解,经过滤得到混合液;S200、使步骤S100中得到的混合液进行减压蒸馏至变为透明,得到有机硅助剂;其中,所述碱性催化剂选自氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化镁、氢氧化钙、氧化钠、氧化钾、氧化镁、氧化钙和碱性离子树脂,所述二烷基二烷氧基硅烷与水的摩尔比为1:3-10。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 江西蓝星星火有机硅有限公司 高羟值低环体含量的有机硅助剂的制备方法

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