申请/专利权人：西南大学;深圳森丰真空镀膜有限公司

申请日：2023-12-22

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117721428A

主分类号：C23C14/35

分类号：C23C14/35;C23C14/06;G02B1/10;G02B1/113

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本发明涉及表面涂层技术领域，具体公开了一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺，采用反应磁控溅射技术，在基底表面沉积单层结构的透明硬质涂层，利用元素掺杂与薄膜干涉原理，能够实现良好的减弱蓝光透过率的效果，操作简单，制备得到的涂层具有高的硬度，提高了涂层的耐磨性，同时，通过调控磁控溅射的工艺参数，能够精确调整SiN和AlN之比，进而调整涂层对不同波长蓝光及其余可见光的透过率，可控性强，尤其降低了短波段有害蓝光的透过率，保护视力，而长波段的有益蓝光则能够更多的穿透涂层，并且对其余可见光具有良好的透过率，有利于显色的清晰度和真实性。

主权项：1.一种可减弱蓝光的透明硬质涂层的制备工艺，其特征在于，包括以下制备步骤：将基底置于磁控溅射系统的腔室中，抽真空后通入氩气和氮气，开启铝靶和硅靶的电源进行共沉积，制备得到透明硬质涂层，其中，所述铝靶的射频溅射功率为280-320W，所述硅靶的直流溅射功率为28-55W，所述氩气的流量为20-60sccm，所述氮气的流量为3-10sccm，溅射的时间为50～100min。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 西南大学;深圳森丰真空镀膜有限公司 一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺

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