申请/专利权人：上海富乐华半导体科技有限公司

申请日：2021-08-12

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN113804004B

主分类号：F27D7/02

分类号：F27D7/02;F27D7/06;F27B9/24;H01L23/14

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2022.01.04#实质审查的生效;2021.12.17#公开

摘要：本发明涉及一种提高烧结炉传送带表面氧化层可靠性的方法，包括：第一氧化处理段，将高温烧结炉的温度设置在990℃～1010℃，通入氮气，将传送带进行循环空运转，并在每次运转时确保在炉内保持停留时间；传送带循环空运转时间为1～2天；第二氧化处理段，将高温烧结炉的温度调整至1065℃～1075℃，通入氮气，将经步骤1处理后的传送带再次进行循环空运转，并在每次运转时确保炉内停留时间；传送带持续进行空运转的时间为4～5天。通过本发明的两段式氧化处理，将传送带氧化时间从需12～15天左右缩短到5～7天左右，降低氧化处理时间，提高了烧结炉的产能及生产效率。与此同时，也降低了炉膛的清理频率，从原来的60天，提高至180天以上，提高了产品的烧结良率。

主权项：1.一种提高烧结炉传送带表面氧化层可靠性的方法，其特征在于，包括以下步骤：1第一氧化处理段将高温烧结炉的温度设置在990℃～1010℃，同时通入氮气，将所述传送带进行循环空运转，并在每次运转时确保在炉内保持一定的停留时间；所述传送带持续进行空运转的时间为1～2天；2第二氧化处理段将高温烧结炉的温度调整至1065℃～1075℃，也同时通入氮气，将经步骤1处理后的所述传送带再次进行循环空运转，并在每次运转时确保在炉内保持一定的停留时间；所述传送带持续进行空运转的时间为4～5天，其中，两个氧化处理段中，通入氮气的浓度为15～25Lmin，两个氧化处理段中，每次运转时所述传送带在炉内高温段的停留时间为18～22min。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海富乐华半导体科技有限公司 提高烧结炉传送带表面氧化层可靠性的方法

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