申请/专利权人：全芯智造技术有限公司

申请日：2022-12-31

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN115933331B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2023.08.08#实质审查的生效;2023.04.07#公开

摘要：根据本公开的示例实施例提供了光源优化方法、设备和介质。该方法包括获取测试图案、针对测试图案的参考工艺窗口和第一光源强度图，参考工艺窗口指示一个或多个工艺参数的范围，第一光源强度图是由光源在参考照明模式下产生的该方法还包括基于参考工艺窗口和第一光源强度图，确定第一成像成本，第一成像成本至少与利用测试图案进行光刻有关。该方法还包括基于第一成像成本，确定光源的目标照明模式。以此方式，可以高效地确定用于新工艺节点的光源照明模式，从而有利地加快新工艺节点的研发进程。

主权项：1.一种光源优化方法，其特征在于，包括：获取测试图案、针对所述测试图案的参考工艺窗口和第一光源强度图，所述参考工艺窗口指示一个或多个工艺参数的范围，所述第一光源强度图是由光源在参考照明模式下产生的；基于所述参考工艺窗口和所述第一光源强度图，确定第一成像成本，所述第一成像成本至少与利用所述测试图案进行光刻有关；以及基于所述第一成像成本，确定所述光源的目标照明模式，并且其中确定第一成像成本包括：基于所述参考工艺窗口和所述第一光源强度图，通过光刻成像仿真，确定利用所述测试图案进行光刻而形成的多个第一仿真图案，所述多个第一仿真图案分别形成在光刻胶的不同平面上；基于所述多个第一仿真图案，确定用于评估工艺窗口的第一指标的仿真值，所述第一指标包括多个指标项，每个指标项与一个工艺因素相关联；以及至少基于所述第一指标的仿真值，确定所述第一成像成本。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 全芯智造技术有限公司 光源优化方法、设备和介质

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD