申请/专利权人：中国华录集团有限公司

申请日：2023-12-21

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117746923A

主分类号：G11B7/2403

分类号：G11B7/2403;G11B7/126

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明公开了一种光学记录和电学读取数据的结构及方法，包括基材层、信息层和保护层；所述基材层上设有所述信息层，所述信息层上设有所述保护层；其中所述信息层包括检测区域、记录区域和供电区域，所述检测区域、记录区域和供电区域依次沿远离所述基材层的方向设置；所述记录区域用于在激光的照射下记录数据；所述检测区域用于读取所述记录区域记录的数据；所述供电区域用于在所述检测区域读取数据过程中进行供电。本发明通过介质材料的光致化学变化或物理变化原理进行数据记录，有利于数据的长期保存，且记录速度更快，耗能较低，并利用介质材料在变化前后电气特性不同，从而进行电学读取数据，实现数据的快速并行高速读取。

主权项：1.一种光学记录和电学读取数据的结构，其特征在于，包括基材层1、信息层2和保护层3；所述基材层1上设有所述信息层2，所述信息层2上设有所述保护层3；其中所述信息层2包括检测区域21、记录区域22和供电区域23，所述检测区域21、记录区域22和供电区域23依次沿远离所述基材层1的方向设置；所述记录区域22用于在激光的照射下记录数据；所述检测区域21用于读取所述记录区域22记录的数据；所述供电区域23用于在所述检测区域21读取数据过程中进行供电。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国华录集团有限公司 一种光学记录和电学读取数据的结构及方法

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