申请/专利权人:株式会社东芝
申请日:2023-02-28
公开(公告)日:2024-03-22
公开(公告)号:CN117740774A
主分类号:G01N21/84
分类号:G01N21/84;G01N21/01
优先权:["20220920 JP 2022-148783"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开
摘要:本公开的实施方式涉及光学检查装置、光学检查系统、光学检查方法以及存储介质。提供能够取得包括曲面等的物体表面的信息的光学检查装置。根据实施方式,光学检查装置的照明部对物体的表面的第1物点照射第1照明光,对物体的表面的第2物点照射第2照明光。波长选择部配置于拍摄部与物体的表面之间,使不同的波长频谱的光选择性地通过。拍摄部通过波长选择部对来自第1物点的光进行拍摄,通过波长选择部对来自第2物点的光进行拍摄。
主权项:1.一种光学检查装置,具备:照明部,对物体的表面的第1物点照射第1照明光,对所述物体的表面的与所述第1物点不同的第2物点照射与所述第1照明光不同的方向的第2照明光;波长选择部,具有使不同的波长频谱的光选择性地通过的至少2个波长选择区域;以及拍摄部,在处于所述第1物点处的法线方向与所述第1照明光的方向相向的关系时,能够通过所述波长选择部对来自所述第1物点的光进行拍摄,在处于所述第2物点处的、不同于所述第1物点处的法线方向的法线方向与所述第2照明光的方向相向的关系时,能够通过所述波长选择部对来自所述第2物点的光进行拍摄,所述波长选择部配置于所述拍摄部与所述物体的表面之间。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 株式会社东芝 光学检查装置、光学检查系统、光学检查方法以及存储介质
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