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【发明公布】一种基于双向非对称纳米印刷超表面的图像隐藏加密方法_浙江工业大学_202311660051.2 

申请/专利权人:浙江工业大学

申请日:2023-12-06

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117750031A

主分类号:H04N19/467

分类号:H04N19/467;G02B1/00;G02B27/28

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:本发明公开了一种基于双向非对称纳米印刷超表面的图像隐藏加密方法,包括具体如下步骤:1构建纳米结构单元;2根据选定的工作波长λ,通过电磁仿真软件优化两种纳米砖的结构参数;3构建纳米结构阵列,设定以偏振方向α1=π2的线偏振光分别从上表面和下表面入射所述纳米结构阵列再经过以透光轴方向α2=π2的检偏器,两种入射情况下显示的图像信息一致,能够在纳米结构阵列编码第一幅图像;偏振方向保持不变的线偏振光入射至所述纳米结构阵列再经过以透光轴方向α2=0的检偏器,两种入射情况下显示的图像信息不同,将两者逐像素相加能够在纳米结构阵列编码第二幅图像,为图像隐藏加密提供了方法,提高了图像的隐蔽性。

主权项:1.一种基于双向非对称纳米印刷超表面的图像隐藏加密方法,其特征在于包括具体如下步骤:1构建纳米结构单元:纳米结构单元包括透明基底,所述透明基底的上表面和下表面上分别沉积有纳米砖,以结构单元直角边为x轴和y轴建立xoy坐标系,所述两种纳米砖长边为长轴、短边为短轴,所述两种纳米砖的短轴与x轴夹角为纳米砖的转向角θ1和θ2;2根据选定的工作波长λ,通过电磁仿真软件优化两种纳米砖的结构参数,所述结构参数包括:所述结构单元的工作面边长C以及所述两种纳米砖的长轴L1、L2,短轴W1、W2,和高度H1、H2;3构建纳米结构阵列,所述纳米结构阵列包含多个纳米结构单元;设定以偏振方向α1=π2的线偏振光分别从上表面和下表面入射所述纳米结构阵列再经过以透光轴方向α2=π2的检偏器,两种入射情况下显示的图像信息一致,能够在纳米结构阵列编码第一幅图像,所述图像信息作为伪装的虚假信息可以被直接观测;偏振方向保持不变的线偏振光入射至所述纳米结构阵列再经过以透光轴方向α2=0的检偏器,两种入射情况下显示的图像信息不同,将两者逐像素相加能够在纳米结构阵列编码第二幅图像,所述图像信息为被隐藏的真实信息并且不能被直接观测。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 浙江工业大学 一种基于双向非对称纳米印刷超表面的图像隐藏加密方法

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