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【发明公布】一种光学元件超光滑表面的高抛方法及高抛设备_苏州古莱光学科技有限公司_202311873137.3 

申请/专利权人:苏州古莱光学科技有限公司

申请日:2023-12-29

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117733661A

主分类号:B24B1/00

分类号:B24B1/00;B24B29/02;B24B57/02;B24B41/06;B24B41/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:本发明公开了一种光学元件超光滑表面的高抛方法,属于光学元件抛光技术领域,包括以下步骤:先根据工件的类型,选择与工件待加工表面的形状相适配的抛光模具;然后将粗抛抛光液喷射到材质为聚氨酯的第一抛光皮上,使得粗抛光液在工件与第一抛光皮之间流动,实现工件表面面型精度ΔN≤0.3fr的抛光;接着将精抛抛光液喷射到材质为聚氨酯的第二抛光皮上,使得精抛光液在工件与第二抛光皮之间流动,最终实现工件表面粗糙度RMS≤0.5nm的抛光。本申请可以在各种高抛设备上达到相同的超光滑表面效果、适用范围较广、加工区域较大、抛光效率也较高,同时操作简单、生产成本和人工成本均较低。

主权项:1.一种光学元件超光滑表面的高抛方法,其特征在于,包括以下步骤:对工件进行粗抛光:对高抛设备的主轴转速进行设定;根据工件的类型,选择与工件待加工表面的形状相适配的抛光模具,然后将材质为聚氨酯的第一抛光皮安装在与主轴连接的抛光模具上;将夹持有工件的夹具放到抛光模具上,使得工件的抛光面与第一抛光皮面接触;将高抛设备的摇摆轴放下,使其与夹具抵触;启动高抛设备,主轴带动抛光模具、第一抛光皮旋转,摇摆轴与主轴同时运转,通过气压系统对夹具加压并传递至工件上,通过喷嘴将粗抛抛光液喷射到第一抛光皮上,使得粗抛光液在工件与第一抛光皮之间流动,实现工件表面面型精度ΔN≤0.3fr的抛光;对工件进行精抛光:对高抛设备的主轴转速进行设定;将材质为聚氨酯的第二抛光皮安装在与主轴连接的抛光模具上;将夹持有已完成粗抛的工件的夹具放到抛光模具上,使得工件的抛光面与第二抛光皮面接触;将高抛设备的摇摆轴放下,使其与夹具抵触;启动高抛设备,主轴带动抛光模具、第二抛光皮旋转,摇摆轴与主轴同时运转,通过气压系统对夹具加压并传递至工件上,通过喷嘴将精抛抛光液喷射到第二抛光皮上,使得精抛光液在工件与第二抛光皮之间流动,最终实现工件表面粗糙度RMS≤0.5nm的抛光。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州古莱光学科技有限公司 一种光学元件超光滑表面的高抛方法及高抛设备

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