申请/专利权人:华中科技大学
申请日:2023-12-27
公开(公告)日:2024-03-22
公开(公告)号:CN117742011A
主分类号:G02F1/00
分类号:G02F1/00;G02F1/1335;G02F1/1343;G02B5/20;G09G3/36
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开
摘要:本发明涉及一种基于相变材料的像素灰度调制结构,具有高灰度级别、光利用率高、响应速度快、分辨率高等特点,该基于相变材料的像素灰度调制结构,主要包括每个子像素中的n个多层相变单元阵列、上全介质滤光结构、全介质中间腔、下全介质滤光结构、crossbar控制结构,适用于各种显示设备,包括但不限于电子纸、投影设备、增强现实虚拟现实设备ARVR、车载显示器、移动设备显示屏等。
主权项:1.一种基于相变材料的像素灰度调制结构,其特征在于,所述像素灰度调制结构包括每个子像素中的n个多层相变单元阵列、上全介质滤光结构、全介质中间腔、下全介质滤光结构、crossbar控制结构;所述多层相变单元阵列包括分布在每个子像素中,每个子像素中存在n个相变调控单元,通过调控所述每个子像素中相变调控单元的相变数量,以达到控制所述每个子像素的发光强度,进而控制像素点的灰度所述上全介质滤光结构,由高、低折射率材料交替构成,用于增强结构透射率并减少非目标波长的光透过;所述全介质中间腔,由高折射率的全介质材料构成,用于改善滤光结构的透射特性和减少杂光;所述下全介质滤光结构,用于进一步提升整体的透射率并减少非目标波长的光透过。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 华中科技大学 一种基于相变材料的像素灰度调制结构
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