申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2022-06-03

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117751382A

主分类号：G06T7/00

分类号：G06T7/00;H01L21/66

优先权：["20210709 US 63/220,374"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.22#公开

摘要：用于检测样品上的缺陷的系统和方法包括：接收第一图像和与第一图像相关联的第二图像；使用聚类技术，确定第一图像中的L个第一像素多个的N个第一特征描述符多个和第二图像中的L个第二像素多个的M个第二特征描述符多个，其中L个第一像素多个中的每个第一像素与L个第二像素多个中的一个第二像素同位地定位，并且L、M和N为正整数；确定N个第一特征描述符多个中的第一特征描述符与M个第二特征描述符多个中的K个第二特征描述符多个中的每个第二特征描述符之间的K个映射概率，其中K为正整数；以及基于确定K个映射概率中的一个映射概率不超过阈值，来提供用于确定是否存在表示样品上的候选缺陷的反常像素的输出。

主权项：1.一种用于检测样品上的缺陷的方法，所述方法包括：通过包括电路系统的控制器，接收第一图像和与所述第一图像相关联的第二图像；使用聚类技术，确定所述第一图像中的L个第一像素的N个第一特征描述符和所述第二图像中的L个第二像素的M个第二特征描述符，其中所述L个第一像素中的每个第一像素与所述L个第二像素中的一个第二像素同位地定位，并且L、M和N为正整数；确定所述N个第一特征描述符中的第一特征描述符与所述M个第二特征描述符中的K个第二特征描述符中的每个第二特征描述符之间的K个映射概率，其中K为正整数；以及基于确定所述K个映射概率中的一个映射概率不超过阈值，来提供指示是否存在表示所述样品上的候选缺陷的反常像素的输出。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 基于异常的缺陷检查方法和系统

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