申请/专利权人：广东工业大学

申请日：2019-12-23

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN110948293B

主分类号：B24B1/00

分类号：B24B1/00;B24B1/04;H01L21/67;H01L21/304

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权;2020.05.01#实质审查的生效;2020.04.03#公开

摘要：本发明涉及超精密加工的技术领域，更具体地，涉及一种半导体基片用声光磁复合抛光装置及抛光方法，包括磁流变抛光组件、催化剂添加组件、光催化组件以及兆声波催化组件，磁流变抛光组件包括第一驱动电机、抛光轴以及抛光盘，抛光轴与第一驱动电机连接且抛光轴可伸入至抛光盘内侧，抛光盘内盛装有磁流变液、抛光盘下方设有在抛光盘内形成磁场的电磁组件、抛光盘的下部连接有驱动抛光盘旋转的驱动组件，催化剂添加组件与抛光盘连通，光催化组件设于抛光盘旁侧，兆声波催化组件与抛光盘连接。本发明向磁流变液内添加催化剂，配合光催化组件及兆声波催化组件，磁流变机械抛光与化学氧化腐蚀作用同时进行，具有较好的加工效率和加工质量。

主权项：1.一种半导体基片用声光磁复合抛光装置，其特征在于，包括磁流变抛光组件1、催化剂添加组件2、光催化组件3以及兆声波催化组件4，所述磁流变抛光组件1包括第一驱动电机11、抛光轴12以及抛光盘13，所述抛光轴12与第一驱动电机11连接且抛光轴12伸入至抛光盘13内侧，所述抛光盘13内盛装有磁流变液，所述抛光盘13下方设有在抛光盘13内形成磁场的电磁组件5，抛光盘13的下部连接有驱动抛光盘13旋转的驱动组件6，所述催化剂添加组件2与抛光盘13连通向抛光盘13内输送催化剂，所述光催化组件3设于抛光盘13旁侧向抛光盘13内侧发射紫外光，所述兆声波催化组件4与抛光盘13连接向抛光盘13内侧发射兆声波；所述催化剂添加组件2包括箱体21、输送泵22、输液管23以及抽液管24，所述箱体21内盛装有催化剂，所述输送泵22设有与抽液管24连接的进水口以及与输液管23连接的出水口，所述输液管23的一端伸入至抛光盘13；所述光催化组件3为可发射紫外线的扇形灯珠光源，所述扇形灯珠光源设于抛光盘13的侧部；所述兆声波催化组件4包括夹具41、超声波头42及超声波发生器43，所述夹具41与抛光盘13侧壁卡接，所述超声波头42设于夹具41朝向抛光盘13内侧一侧，所述超声波发生器43与超声波头42电连接。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 广东工业大学 一种半导体基片用声光磁复合抛光装置及抛光方法

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