买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明授权】氨制造装置和氨制造方法_株式会社东芝_202080018352.3 

申请/专利权人:株式会社东芝

申请日:2020-09-02

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN113518837B

主分类号:C25B9/70

分类号:C25B9/70;C25B11/031;C25B13/02;C25B15/08;C25B1/27;C25B1/50

优先权:["20191217 JP 2019-227271"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.22#授权;2021.11.05#实质审查的生效;2021.10.19#公开

摘要:提供价格便宜、可控制反应的氨制造装置。氨制造装置1具备:包括用于容纳第一电解液的第一电解槽2、配置在第一电解槽2内的氧化电极、用于容纳含氮的第二电解液和氨生成催化剂和还原剂的第二电解槽3、配置在第二电解槽3内的还原电极、和隔膜4,以将在第二电解槽3内将氮采用氨生成催化剂和还原剂还原而生成氨,同时通过将氧化电极和还原电极与电源15连接从而用还原电极将生成氨并被氧化的还原剂还原的方式构成的电化学反应单元5;包括用于在第二电解液中使氮溶解的氮供给部6的氮供给单元7;和包括从包含氨的第二电解液将氨分离的分离部8的氨分离单元9。

主权项:1.氨制造装置,其具备:包括用于容纳第一电解液的第一电解槽、配置在所述第一电解槽内的氧化电极、用于容纳含氮的第二电解液和氨生成催化剂和还原剂的第二电解槽、配置在所述第二电解槽内的还原电极、和在所述第一电解槽与所述第二电解槽之间设置的隔膜,以在所述第二电解槽内将所述氮采用所述氨生成催化剂和所述还原剂还原而生成氨,并且通过将所述氧化电极和所述还原电极与电源连接从而用所述还原电极将生成所述氨并被氧化的所述还原剂还原的方式构成的电化学反应单元;包括用于在所述第二电解液中使氮溶解的氮供给部,以使所述第二电解槽内的所述氮的还原反应持续的方式构成的氮供给单元;和包括以从包含所述氨的所述第二电解液将所述氨分离的方式构成的分离部的氨分离单元,所述还原剂包含镧系元素金属的卤化物,所述氨生成催化剂包含钼络合物。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社东芝 氨制造装置和氨制造方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。