申请/专利权人:台州爱德盟半导体有限公司
申请日:2023-08-05
公开(公告)日:2024-03-22
公开(公告)号:CN220643258U
主分类号:C23C16/50
分类号:C23C16/50;C23C16/458;C23C16/455
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.03.22#授权
摘要:本实用新型公开了一种MPCVD基片台旋转结构,包括反应腔、驱动腔及轮杆,所述驱动腔位于反应腔的下方,所述轮杆穿过驱动腔的底端及顶端延伸至反应腔内,所述轮杆的顶端设有基片台,所述反应腔及驱动腔均与轮杆转动连接,所述轮杆的周壁设有螺旋叶片,所述螺旋叶片位于驱动腔内,所述驱动腔一侧设有气瓶,所述气瓶通过进气管路与驱动腔连通,所述进气管路上设有第一开关阀,所述驱动腔通过出气管路与反应腔连通。本实用新型提供了一种MPCVD基片台旋转结构,利用装置输入气体时产生的动能驱动基片台旋转,达到节能的目的。
主权项:1.一种MPCVD基片台旋转结构,其特征在于,包括反应腔、驱动腔及轮杆,所述驱动腔位于反应腔的下方,所述轮杆穿过驱动腔的底端及顶端延伸至反应腔内,所述轮杆的顶端设有基片台,所述反应腔及驱动腔均与轮杆转动连接,所述轮杆的周壁设有螺旋叶片,所述螺旋叶片位于驱动腔内,所述驱动腔一侧设有气瓶,所述气瓶通过进气管路与驱动腔连通,所述进气管路上设有第一开关阀,所述驱动腔通过出气管路与反应腔连通。
全文数据:
权利要求:
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