申请/专利权人:西北稀有金属材料研究院宁夏有限公司
申请日:2023-12-29
公开(公告)日:2024-03-26
公开(公告)号:CN117754398A
主分类号:B24B13/00
分类号:B24B13/00;B24B13/005;B24B55/06
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.12#实质审查的生效;2024.03.26#公开
摘要:本发明提供一种TEM透射电镜小薄样品的双面磨抛制备方法,属于机械加工技术领域,所述制备方法包括,设置吸附孔,将吸附孔端埋入样品座的凹槽内,所述空腔的另一端用柔性材料封闭;在所述吸附孔末端吸附磨抛样品,所述磨抛样品与所述样品座的凹槽之间设置磁性吸附垫;将所述吸附空腔抽负压;进行磨抛;磨抛结束后取样,将样品清洗2‑3次,取出晾干。本发明所述方法在磨抛冲击时样品几乎不发生位移,半埋结构可以保护样品边缘不易受损,配合小压力、短时间的磨抛参数,可保证对样品边角无损伤,实现双面洁净抛光,通过吸附孔数量的设置,实现批量化制备。
主权项:1.一种TEM透射电镜小薄样品的双面磨抛制备方法,其特征在于,步骤S1.制作吸附空腔,所述吸附空腔的一端设置吸附孔;步骤S2.所述吸附空腔的吸附孔端埋入样品座的凹槽内,所述空腔的另一端用柔性材料封闭;在所述吸附孔末端吸附磨抛样品,所述磨抛样品与所述样品座的凹槽之间设置柔性吸附垫;步骤S3.将所述吸附空腔抽负压;步骤S4.将一个或多个样品座中的样品进行磨抛;步骤S5.将样品座整体用水冲洗后,悬空沥水,将吸附空腔调节为正压,用超声波将样品震动脱落;步骤S6.再将样品反面吸附至所述吸附孔,并执行步骤S2-步骤S5获得双面抛磨的样品;步骤S7.将双面抛磨的样品清洗2-3次,再干燥。
全文数据:
权利要求:
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