申请/专利权人：苏州光舵微纳科技股份有限公司

申请日：2017-05-18

公开（公告）日：2024-03-26

公开（公告）号：CN107132728B

主分类号：G03F7/00

分类号：G03F7/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.26#授权;2023.07.28#著录事项变更;2017.09.29#实质审查的生效;2017.09.05#公开

摘要：本发明公开了一种全自动量产型纳米压印装置，包括：底座，底座上设有导轨；多个纳米压印机构，纳米压印机构设置于底座上且分布于导轨长度方向的两侧；供料机构，包括料片供料机构和软膜板供料机构，料片供料机构和软膜板供料机构设置于底座上且位于导轨长度方向的一侧；物料移载机构，物料移载机构移动设置于导轨上，用于将料片和软膜板在供料结构和纳米压印机构之间搬运。本发明相较于现有技术，物料移载机构将料片和软膜板在供料结构和纳米压印机构之间搬运，结构合理，省却人力，实现自动搬运料片和软膜板、以及自动压印，多个纳米压印机构同时工作，大大提高工作效率。

主权项：1.全自动量产型纳米压印装置，其特征在于，包括：底座，底座上设有导轨；多个纳米压印机构，纳米压印机构设置于底座上且分布于导轨长度方向的两侧；供料机构，包括料片供料机构和软膜板供料机构，料片供料机构和软膜板供料机构设置于底座上且位于导轨长度方向的一侧；物料移载机构，物料移载机构移动设置于导轨上，用于将料片和软膜板在供料结构和纳米压印机构之间搬运；物料移载机构包括安装基座、驱动机构、二连接曲柄机构和定位组件，安装基座移动设置于导轨上，二连接曲柄机构对称设置于安装基座上，二连接曲柄机构包括第一连接臂和第二连接臂，第一连接臂长度方向的一端转动设置于安装基座上，第二连接臂长度方向的一端转动设置于第一连接臂上，定位组件包括定位底座、料片取料组件和软膜板取料组件，定位底座与二第二连接臂的自由端铰接，料片取料组件、软膜板取料组件设置于定位底座上，驱动机构与第一连接臂、第二连接臂连接用于驱动二第一连接臂绕其与安装基座的连接点沿同一圆周方向转动、以及用于驱动二个第二连接臂绕其与第一连接臂的连接点沿相反的圆周方向转动；软膜板取料组件包括吸盘手指，吸盘手指为电磁吸铁机构或真空吸附机构；吸盘手指包括吸盘底板和电磁线圈，吸盘底板内开设有安装腔体，电磁线圈设置于安装腔体内，电磁线圈与变频电源连接；或吸盘手指包括吸盘底板，吸盘底板的底部开设有吸附气孔，吸盘底板内开设有连通吸附气孔的连接通道，连接通道与真空泵连接。

全文数据：全自动量产型纳米压印装置技术领域[0001]本发明涉及一种全自动量产型纳米压印装置。背景技术[0002]纳米压印技术是微纳米器件制作工艺中的一个重要技术，纳米压印技术最早由StephenYChou教授在1"5年率先提出，这是一种不同于传统光刻技术的全新图形转移技术。纳米压印技术的定义为:不使用光线或者福照使光刻感光成型，而是直接在娃衬底或者其他衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形。[0003]目前纳米压印制作时，主要采用人工的方式搬运料片和软膜板，劳动强度大，工作效率低，容易影响后期压印效果。发明内容[0004]为了解决上述技术问题，本发明提供了一种全自动量产型纳米压印装置。[0005]为了达到上述目的，本发明的技术方案如下：[0006]本发明提供一种全自动量产型纳米压印装置，包括：[0007]底座，底座上设有导轨；[0008]多个纳米压印机构，纳米压印机构设置于底座上且分布于导轨长度方向的两侧；[0009]供料机构，包括料片供料机构和软膜板供料机构，料片供料机构和软膜板供料机构设置于底座上且位于导轨长度方向的一侧；[0010]物料移载机构，物料移载机构移动设置于导轨上，用于将料片和软膜板在供料结构和纳米压印机构之间搬运。[0011]本发明相较于现有技术，物料移载机构将料片和软膜板在供料结构和纳米压印机构之间搬运，结构合理，省却人力，实现自动搬运料片和软膜板、以及自动压印，多个纳米压印机构同时工作，大大提高工作效率。[0012]其中，上述的纳米压印机构包括压印机箱和压印机构，压印机箱设置于底座上，压印机箱内设有料片定位机构和软膜板定位机构，压印机箱的侧面上设有料片进出口和软膜板进出口，压印机构设置于压印机箱内用于将软膜板压印至料片上。[0013]在上述技术方案的基础上，还可做如下改进：[0014]作为优选的方案，上述的物料移载机构包括安装基座、驱动机构、二连接曲柄机构和定位组件，安装基座移动设置于导轨上，二连接曲柄机构对称设置于安装基座上，二连接曲柄机构包括第一连接臂和第二连接臂，第一连接臂长度方向的一端转动设置于安装基座上，第二连接臂长度方向的一端转动设置于第一连接臂上，定位组件包括定位底座、料片取料组件和软膜板取料组件，定位底座与二第二连接臂的自由端铰接，料片取料组件、软膜板取料组件设置于定位底座上，驱动机构与第一连接臂、第二连接臂连接用于驱动二第—连接臂绕其与安装基座的连接点沿同一圆周方向转动、以及用于驱动二个第二连接臂绕其与第一连接臂的连接点沿相反的圆周方向转动。~[0015]采用上述优选的方案，二个第一连接臂的转动使得料片和软膜板在供料机构和纳米压印机构在导轨长度方向不同侧的时候进行切换，二个第二连接臂的转动完成供料机构取料和纳米压印机构上料工作。[0016]作为优选的方案，上述的定位底座为圆柱结构，料片取料组件、软膜板取料组件相对设置于圆柱结构的侧面上。[0017]米用上述优选的方案，料片取料组件、软膜板取料组件设置于相对的侧面上，通过二个第一连接臂的转动带动定位底座转动，实现料片取料组件、软膜板取料组件的取料。[0018]作为优选的方案，上述的定位底座为圆柱结构，料片取料组件、软膜板取料组件设置于圆柱结同一侧的侧面上或二者均设置于圆柱结相对的二侧面上，料片取料组件设置于软膜板取料组件的上方。其中，上述的安装基座包括上基座、下基座和连接气缸，下基座移动设置于^轨上，连接气缸设置于下基座上且其输出端与上基座连接。[0019]采用上述优选的方案，料片取料组件、软膜板取料组件设置于圆柱结同一侧的侧面上，通过上基座在竖直方向的移动，实现料片取料组件、软膜板取料组件的取料。[0020]作为优选的方案，上述的料片取料组件包括二取料杆，取料杆为装夹料杆或吸附料杆。’[0021]采用上述优选的方案，取料杆为装夹料杆，夹取料片;取料杆为吸附料杆，吸取料片，从而实现料片的取料。[0022]作为优选的方案，上述的软膜板取料组件包括吸盘手指，吸盘手指为电磁吸铁机构或真空吸附机构。[0023]根据实际情况，可以选择，上述的吸盘手指包括吸盘底板和电磁线圈，吸盘底板内开设有安装腔体，电磁线圈设置于安装腔体内，电磁线圈与变频电源连接;还可以选择，上述的吸盘手指包括吸盘底板，吸盘底板的底部开设有吸附气孔，吸盘底板内开设有连通吸附气孔的连接通道，连接通道与真空泵连接。[0024]采用上述优选的方案，软膜板取料组件为电磁吸铁机构或真空吸附机构，实现软膜板的取料。[0025]作为优选的方案，还设有料片定中心机构，料片定中心机构设置于料片供料机构的下方。[0026]采用上述优选的方案，增加料片定位中心机构，对料片进行定位检验，避免料片产生偏移，保证搬运的稳定性。附图说明[0027]图1为本发明的整体结构示意图。[0028]图2为本发明的结构俯视图。具体实施方式[0029]下面结合附图详细说明本发明的优选实施方式。[0030]为了达到本发明的目的，如图i至图2所示，在本发明的其中一种实施方式中提供一种全自动量产型纳米压印装置，包括：A[0031]底座，底座上设有导轨；[0032]三个纳米压印机构1，纳米压印机构设置于底座上且分布于导轨长度方向的两侧；[0033]供料机构，包括料片供料机构3和软膜板供料机构4，料片供料机构3和软膜板供料机构4设置于底座上且位于导轨长度方向的一侧；[0034]物料移载机构2,物料移载机构2移动设置于导轨上，用于将料片和软膜板在供料结构和纳米压印机构之间搬运。[0035]本实施方式相较于现有技术，物料移载机构2将料片和软膜板在供料结构和纳米压印机构之间搬运，结构合理，省却人力，实现自动搬运料片和软膜板、以及自动压印，多个纳米压印机构同时工作，大大提高工作效率。[0036]其中，上述的纳米压印机构1包括压印机箱和压印机构，压印机箱设置于底座上，压印机箱内设有料片定位机构和软膜板定位机构，压印机箱的侧面上设有料片进出口和软膜板进出口，压印机构设置于压印机箱内用于将软膜板压印至料片上。[0037]为了进一步地优化本发明的实施效果，在本发明的另一种实施方式中，在前述内容的基础上，上述的物料移载机构2包括安装基座、驱动机构、二连接曲柄机构和定位组件，安装基座移动设置于导轨上，二连接曲柄机构对称设置于安装基座上，二连接曲柄机构包括第一连接臂和第二连接臂，第一连接臂长度方向的一端转动设置于安装基座上，第二连接臂长度方向的一端转动设置于第一连接臂上，定位组件包括定位底座、料片取料组件和软膜板取料组件，定位底座与二第二连接臂的自由端铰接，料片取料组件、软膜板取料组件设置于定位底座上，驱动机构与第一连接臂、第二连接臂连接用于驱动二第一连接臂绕其与安装基座的连接点沿同一圆周方向转动、以及用于驱动二个第二连接臂绕其与第一连接臂的连接点沿相反的圆周方向转动。[0038]采用上述优选的方案，二个第一连接臂的转动使得料片和软膜板在供料机构和纳米压印机构在导轨长度方向不同侧的时候进行切换，二个第二连接臂的转动完成供料机构取料和纳米压印机构上料工作。[0039]为了进了步地优化本发明的实施效果，在本发明的另一种实施方式中，在前述内容的基础上，上述的定位底座为圆柱结构，料片取料组件、软膜板取料组件相对设置于圆柱结构的侧面上。[0040]采用上述优选的方案，料片取料组件、软膜板取料组件设置于相对的侧面上，通过一个第一连接臂的转动带动定位底座转动，实现料片取料组件、软膜板取料组件的取料。_1]为了进-步地优化本发麵实施效果，在本发棚另—种实施方式巾，在前述内容的基础上，上述的定位底座为圆柱结构，料片取料组件、软膜板取料组件设置于圆柱结同-侧的彳顺上或—者均设置于瞧结相顺二||_上，料片糊_组件丨卩置于软臟取料组的Hit包括上基座、下基座和驗气缸，下轨上，连接气缸设置于下基座上且其输出端与上基座连接。^^、^^^选^^片取料组化软膜板取料组件设置于圆柱结同一侧的侧了基实测片辦植件、软臟取蘭件的取料。实驗果，在本发觀另—种实施方式中，在前述内d^卜杆，取料杆鳩夹痛賴附料杆。片，从鸸现料片的取料。木为装夹料杆，夹取料片;取料杆为吸附料杆，吸取料[0045]为了进一步地优化本发明的实施效果，在本发明的另一种实施方式中，在前述内容的基础上，上述的软膜板取料组件包括吸盘手指，吸盘手指为电磁吸铁机构或真空吸附机构。[0046]根据实际情况，可以选择，上述的吸盘手指包括吸盘底板和电磁线圈，吸盘底板内开设有安装腔体，电磁线圈设置于安装腔体内，电磁线圈与变频电源连接;还可以选择，上述的吸盘手指包括吸盘底板，吸盘底板的底部开设有吸附气孔，吸盘底板内开设有连通吸附气孔的连接通道，连接通道与真空泵连接。[0047]采用上述优选的方案，软膜板取料组件为电磁吸铁机构或真空吸附机构，实现软膜板的取料。[0048]为了进一步地优化本发明的实施效果，在本发明的另一种实施方式中，在前述内容的基础上，还设有料片定中心机构5，料片定中心机构5设置于料片供料机构的下方。[0049]采用上述优选的方案，增加料片定位中心机构5，对料片进行定位检验，避免料片产生偏移，保证搬运的稳定性。[0050]以上所述的仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

权利要求：1.全自动量产型纳米压印装置，其特征在于，包括：底座，底座上设有导轨；多个纳米压印机构，纳米压印机构设置于底座上且分布于导轨长度方向的两侧；供料机构，包括料片供料机构和软膜板供料机构，料片供料机构和软膜板供料机构设置于底座上且位于导轨长度方向的一侧；物料移载机构，物料移载机构移动设置于导轨上，用于将料片和软膜板在供料结构和纳米压印机构之间搬运。2.根据权利要求1所述的全自动量产型纳米压印装置，其特征在于，物料移载机构包括安装基座、驱动机构、二连接曲柄机构和定位组件，安装基座移动设置于导轨上，二连接曲柄机构对称设置于安装基座上，二连接曲柄机构包括第一连接臂和第二连接臂，第一连接臂长度方向的一端转动设置于安装基座上，第二连接臂长度方向的一端转动设置于第一连接臂上，定位组件包括定位底座、料片取料组件和软膜板取料组件，定位底座与二第二连接臂的自由端铰接，料片取料组件、软膜板取料组件设置于定位底座上，驱动机构与第一连接臂、第二连接臂连接用于驱动二第一连接臂绕其与安装基座的连接点沿同一圆周方向转动、以及用于驱动二个第二连接臂绕其与第一连接臂的连接点沿相反的圆周方向转动。3.根据权利要求2所述的全自动量产型纳米压印装置，其特征在于，定位底座为圆柱结构，料片取料组件、软膜板取料组件相对设置于圆柱结构的侧面上。4.根据权利要求2所述的全自动量产型纳米压印装置，其特征在于，定位底座为圆柱结构，料片取料组件、软膜板取料组件设置于圆柱结同一侧的侧面上或二者均设置于圆柱结相对的二侧面上，料片取料组件设置于软膜板取料组件的上方。5.根据权利要求1所述的全自动量产型纳米压印装置，其特征在于，安装基座包括上基座、下基座和连接气缸，下基座移动设置于导轨上，连接气缸设置于下基座上且其输出端与上基座连接。6.根据权利要求1所述的全自动量产型纳米压印装置，其特征在于，料片取料组件包括二取料杆，取料杆为装夹料杆或吸附料杆。7.根据权利要求1所述的全自动量产型纳米压印装置，其特征在于，软膜板取料组件包括吸盘手指，吸盘手指为电磁吸铁机构或真空吸附机构。8.根据权利要求7所述的全自动量产型纳米压印装置，其特征在于，吸盘手指包括吸盘底板和电磁线圈，吸盘底板内开设有安装腔体，电磁线圈设置于安装腔体内，电磁线圈与变频电源连接;或吸盘手指包括吸盘底板，吸盘底板的底部开设有吸附气孔，吸盘底板内开设有连通吸附气孔的连接通道，连接通道与真空栗连接。9.根据权利要求1所述的全自动量产型纳米压印装置，其特征在于，纳米压印机构包括压印机箱和压印机构，压印机箱设置于底座上，压印机箱内设有料片定位机构和软膜板定位机构，压印机箱的侧面上设有料片进出口和软膜板进出口，压印机构设置于压印机箱内用于将软膜板压印至料片上。10.根据权利要求1所述的全自动量产型纳米压印装置其特征在于，还设有料片定中心机构，料片定中心机构设置于料片供料机构的下方。

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