申请/专利权人：杭州中科极光科技有限公司

申请日：2023-12-27

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117782538A

主分类号：G01M11/02

分类号：G01M11/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要：本公开涉及激光技术领域，提供了一种激光投影面对激光吸收率的勘测装置及勘测方法。该激光投影面对激光吸收率的勘测装置包括：三基色激光光源，用于产生三种基色光，并将三种基色光向激光投影面投射；光源控制系统，用于调节三种基色光各自的光功率；反射光接收器，用于接收激光投影面反射的三基色反射光；色度测量系统，用于对反射光接收器接收到的三基色反射光的光学参数进行测量，并根据测量结果与标准参考结果获取激光投影面对三种基色光的吸收率，以根据吸收率调整三种基色光的功率配比，其中，标准参考结果为根据标准银幕对三种基色光反射形成的反射光的光学参数。

主权项：1.一种激光投影面对激光吸收率的勘测装置，其特征在于，所述勘测装置包括：三基色激光光源，用于产生三种基色光，并将所述三种基色光向激光投影面投射；光源控制系统，用于调节所述三种基色光各自的光功率；反射光接收器，用于接收所述激光投影面反射的三基色反射光；色度测量系统，用于对所述反射光接收器接收到的三基色反射光的光学参数进行测量，并根据测量结果与标准参考结果获取所述激光投影面对所述三种基色光的吸收率，以根据所述吸收率调整所述三种基色光的功率配比，其中，所述标准参考结果为根据标准银幕对所述三种基色光反射形成的反射光的光学参数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杭州中科极光科技有限公司 激光投影面对激光吸收率的勘测装置及勘测方法

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