申请/专利权人：西安电子科技大学

申请日：2023-11-30

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117784042A

主分类号：G01S7/40

分类号：G01S7/40;G06F18/2433;G06F18/213

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要：本发明公开了一种箔条云测量场景下的定标对准误差修正方法，1、根据箔条云类型确定测量频率和仪器；2、搭建测量系统；3、初步对准，分析计算定标误差；4、移动天线，交叉十字扫描测量定标体，得到测量数据；5、获取理论标准数据；6、对标准结果与实验结果进行特征检测；7、对所有可能点中的离群异常值进行筛除；8、计算置信点集内所有点的最小外切圆，得到最终对准位置x0,y0,z0；9、根据对准位置x0,y0,z0，定义定标体对准误差因子β并计算；10、结果分析。本发明通过SBR‑SPCC‑LOF混合方法，通过让天线在非对准位置对进行十字扫描，实现了基于电磁学的定标体对准位置寻找，解决了当前光学对准手段在箔条云测量场景下的不适用性问题。

主权项：1.箔条云测量场景下的定标对准误差修正方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：根据目标箔条云类型确定测量频率和测量仪器；步骤2：通过步骤1的测量仪器搭建测量系统；步骤3：初步对准，分析计算定标误差；步骤4：移动天线，交叉十字扫描测量定标体，得到测量数据；步骤5：获取测量条件下对应的理论标准数据；步骤6：对标准结果与实验结果进行特征检测，寻找不同频点处的可能对准位置；步骤7：对所有可能点中的离群异常值进行筛除，在筛除过程中，利用手肘法获得筛除门限阈值；步骤8：计算置信点集内所有点的最小外切圆，以外切圆圆心点为此时箔条云测量场景下的定标体最终对准位置x0,y0,z0；步骤9：根据对准位置x0,y0,z0，定义定标体对准误差因子β并计算，此时真实的对准测量结果可以进行校正；步骤10：结果分析。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 西安电子科技大学 箔条云测量场景下的定标对准误差修正方法

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