申请/专利权人：安徽中科光栅科技有限公司

申请日：2024-02-04

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117687135B

主分类号：G02B5/18

分类号：G02B5/18;G03F7/20;G03F9/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2024.03.29#实质审查的生效;2024.03.12#公开

摘要：本发明涉及拼接光栅，具体涉及一种虚实光栅对准方法，在双光束干涉光刻光路中，将实光栅置于双光束干涉场并与虚光栅重叠，通过调节实光栅姿态，使得重叠区域中虚实光栅干涉在实光栅表面产生的莫尔条纹为零条纹，将实光栅调节至与虚光栅平行；平行移动实光栅，找到实光栅在两个方向上的衍射光强相等的交点，并对这些交点对应的位置进行提前标定，后续虚实光栅对准时以标定位置作为虚实光栅重合标志；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的制作拼接光栅时无法准确判断干涉光刻形成的光栅结构是否对准的缺陷。

主权项：1.一种虚实光栅对准方法，其特征在于：包括以下步骤：S1、将实光栅置于双光束干涉场并与虚光栅重叠，虚实光栅干涉在实光栅表面产生莫尔条纹；S2、调节实光栅姿态，使得莫尔条纹的周期越来越大，当整个重叠区域零条纹时，实光栅与虚光栅平行；S3、沿垂直于光栅沟槽方向平行移动实光栅，在实光栅的一侧，探测并记录实光栅在两个方向上的衍射光强变化情况；S4、找到实光栅在两个方向上的衍射光强相等的交点，并确定这些交点中对应虚实光栅重合的目标交点；S5、在光路中对目标交点对应的位置进行提前标定，后续虚实光栅对准时以标定位置作为虚实光栅重合标志；其中，虚光栅为由两个平面波之间形成的干涉条纹；S3中在实光栅的一侧，探测并记录实光栅在两个方向上的衍射光强变化情况，包括：在实光栅一侧的透射区域或者反射区域，利用探测器P1探测0级衍射光RR0与+1级衍射光DL+1之间的干涉光场强度I1，利用探测器P2探测0级衍射光RL0与－1级衍射光DR－1之间的干涉光场强度I2；S4中找到实光栅在两个方向上的衍射光强相等的交点，并确定这些交点中对应虚实光栅重合的目标交点，包括：找到实光栅在两个方向上的衍射光强相等的交点，并对这些交点进行分类；对于分类后的交点，利用波面干涉仪检测出对应虚实光栅重合的一类交点，并将该类交点作为目标交点；所述实光栅在两个方向上的衍射光强相等的交点分为两类，一类为干涉光场强度I1下降与干涉光场强度I2上升的交点，另一类为干涉光场强度I1上升与干涉光场强度I2下降的交点；两类交点中其中一类交点代表虚实光栅重合，另一类交点代表虚实光栅相差半个周期。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 安徽中科光栅科技有限公司 一种虚实光栅对准方法

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