申请/专利权人：麦克德米德乐思公司

申请日：2022-07-25

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117795135A

主分类号：C25D5/00

分类号：C25D5/00;B82Y30/00;B82Y40/00;C25D3/38;H01L21/288;H01L21/768

优先权：["20210805 US 63/229,792"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.29#公开

摘要：一种铜电解质包含铜盐、卤离子源以及直链或支链的多羟基化合物。该铜电解质用于在基板上沉积具有高密度纳米孪晶柱状铜晶粒的铜。该直链或支链的多羟基化合物可包括2,3‑环氧‑1‑丙醇与胺化合物之间的反应产物。还可将包含聚合物季氮物质的整平剂和或包含有机硫化合物的促进剂添加到该铜电解质中，只要保持纳米孪晶柱状铜晶粒即可。

主权项：1.一种铜电解质，包含：a铜盐；b卤离子源；和c抑制剂，其中所述抑制剂包含直链或支链的多羟基化合物，其中铜电镀浴还包含下列中的一种或多种：i促进剂，其中所述促进剂包含有机硫化合物；和ii整平剂，其中所述整平剂包含聚合物季氮物质；其中所述铜电解质能够沉积铜，其中铜沉积物表现出大于约80％的纳米孪晶柱状铜晶粒。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 麦克德米德乐思公司 用于电沉积纳米孪晶铜的组合物和方法

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