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【发明公布】化合物或其互变异构体、组合物、层叠体、光学膜、图像形成材料及化合物或其互变异构体的制造方法_富士胶片株式会社_202280053552.1 

申请/专利权人:富士胶片株式会社

申请日:2022-05-18

公开(公告)日:2024-03-29

公开(公告)号:CN117795017A

主分类号:C09B57/00

分类号:C09B57/00;B32B27/18;C07D403/14;C08K5/3465;C08L101/00;C09D201/00;C09K3/00;C07D239/70;C09D7/63;C09B23/14;C09B67/20;G02B5/22

优先权:["20210817 JP 2021-133007"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要:一种由式1表示的化合物或其互变异构体、组合物、层叠体、光学膜、图像形成材料及化合物或其互变异构体的制造方法,其中,R1~R4:氢原子等,R20:由式2表示的基团等,A:芳香族烃基等,B:阳离子性芳香族烃基等,*:键合位置。其中,对应于[a]的化合物及对应于[b]的化合物以及它们的互变异构体除外。[a]A:由式P表示的基团,R20:氢原子,*:键合位置,R1与R3相同,R2与R4相同。[b]A:由式P表示的基团,R20:由式2表示的基团,*:键合位置,B:由式Q表示的基团,R1与R3相同,R2与R4相同。

主权项:1.一种由下述式1表示的化合物或其互变异构体, 式1中,R1、R2、R3及R4分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R5、R6、R7及R8分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16及R17分别独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、烷基、芳基、羟基、烷氧基、芳氧基、酰氧基、氰基、羧基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰基、氨基、酰胺基、氨基甲酰氨基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、磺基、氨磺酰基、烷硫基或芳硫基,R20表示氢原子、卤素原子、硝基、烷基、芳基、羟基、烷氧基、芳氧基、酰氧基、氰基、羧基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰基、氨基、酰胺基、氨基甲酰氨基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、磺基、氨磺酰基、烷硫基、芳硫基或由下述式2表示的基团,A表示芳香族烃基、杂环基或杂环次甲基,式2中,B表示阳离子性芳香族烃基、阳离子性杂环基或阳离子性杂环次甲基,*表示键合位置, 式1中,R1与R2及R3与R4任选地分别键合而形成环,R1与R5、R2与R6、R3与R7及R4与R8任选地分别键合而形成环,R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及R20各自任选地与相邻的基团键合而形成环,其中,下述对应于[a]的化合物及对应于[b]的化合物以及它们的互变异构体除外,[a]式1中,A为由下述式P表示的基团,R20为氢原子,R1与R3相同,并且R2与R4相同,[b]式1中,A为由下述式P表示的基团,R20为由所述式2表示的基团,B为由下述式Q表示的基团,R1与R3相同,并且R2与R4相同, 式P中,R1及R2分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R5及R6分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R14、R15、R16及R17分别独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、烷基、芳基、羟基、烷氧基、芳氧基、酰氧基、氰基、羧基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰基、氨基、酰胺基、氨基甲酰氨基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、磺基、氨磺酰基、烷硫基或芳硫基,R20表示氢原子、卤素原子、硝基、烷基、芳基、羟基、烷氧基、芳氧基、酰氧基、氰基、羧基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰基、氨基、酰胺基、氨基甲酰氨基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、磺基、氨磺酰基、烷硫基、芳硫基或由所述式2表示的基团,*表示键合位置, 式Q中,R1及R2分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R5及R6分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R14、R15、R16及R17分别独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、烷基、芳基、羟基、烷氧基、芳氧基、酰氧基、氰基、羧基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰基、氨基、酰胺基、氨基甲酰氨基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、磺基、氨磺酰基、烷硫基或芳硫基,*表示键合位置。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 富士胶片株式会社 化合物或其互变异构体、组合物、层叠体、光学膜、图像形成材料及化合物或其互变异构体的制造方法

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