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【发明公布】一种可用于挠性覆铜板的叠层氟膜及其制备方法_中昊晨光化工研究院有限公司;华为终端有限公司_202211170140.4 

申请/专利权人:中昊晨光化工研究院有限公司;华为终端有限公司

申请日:2022-09-22

公开(公告)日:2024-03-29

公开(公告)号:CN117779466A

主分类号:D06M15/256

分类号:D06M15/256;D06M11/79;B32B27/32;B32B27/06;B32B33/00;B32B27/12;B32B17/02;B32B17/10;B32B15/20;B32B15/14

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要:本发明涉及覆铜板技术领域,具体涉及一种可用于挠性覆铜板的叠层氟膜及其制备方法。叠层氟膜包括:玻纤布和在玻纤布两侧接触设置的聚四氟乙烯层;所述聚四氟乙烯层及所述玻纤布的空隙中含有球硅;所述球硅的Dk为3.5以下,Df为0.001以下;所述玻纤布和聚四氟乙烯层的厚度比为1:3~9。制备方法包括:在玻纤布上涂覆含有球硅的聚四氟乙烯溶液,然后固化后烧结。本发明提供的叠层氟膜具有较低的热膨胀系数和较强的抗拉伸强度,克服了聚四氟乙烯薄膜CTE性能和结构强度差的问题,同时解决了氟素FCCL后端FPC试制过程中尺寸安定性问题和挠曲性问题,在满足FCCL工艺可靠性的基础上,降低了传输损耗。

主权项:1.一种可用于挠性覆铜板的叠层氟膜,其特征在于,包括:玻纤布和在玻纤布两侧接触设置的聚四氟乙烯层;所述聚四氟乙烯层及所述玻纤布的空隙中含有球硅;所述球硅的Dk为3.5以下,Df为0.001以下;所述玻纤布和聚四氟乙烯层的厚度比为1:3~9。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中昊晨光化工研究院有限公司;华为终端有限公司 一种可用于挠性覆铜板的叠层氟膜及其制备方法

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