申请/专利权人：夏普显示科技株式会社

申请日：2021-10-19

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN117918062A

主分类号：H05B33/14

分类号：H05B33/14;G02B5/20;H10K71/00;H10K50/115;H05B33/10

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.23#公开

摘要：包含至少一个量子点14和金属硫化物16的量子点层8的形成方法包括：制备使量子点分散在包含金属硫化物的前体及卤化物离子的液体中的量子点分散液的工序；以及将该量子点分散液涂布于基板上的工序。

主权项：1.一种量子点层的形成方法，所述量子点层包含至少一个量子点以及金属硫化物，所述量子点层的形成方法的特征在于，制备量子点分散液的工序，使所述量子点分散在含有所述金属硫化物的前体和卤化物离子的液体中；以及将所述量子点分散液涂布于基板上的工序。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 夏普显示科技株式会社 量子点层的形成方法、量子点层、光学元件、发光器件

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