申请/专利权人：日挥触媒化成株式会社

申请日：2020-09-27

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN112573526B

主分类号：C01B33/141

分类号：C01B33/141;B82Y40/00;C09D7/62;C09D133/00;C08J7/046;C08L1/12

优先权：["20190930 JP 2019-180756"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.29#授权;2022.06.28#实质审查的生效;2021.03.30#公开

摘要：本发明提供能够得到与基材的粘附性优异、具有高硬度及高强度的透明被膜的涂布液。涂布液中包含的粒子具有包含二氧化硅的致密外壳并且在其外壳的内侧具有空洞。粒子的平均粒径D为20～250nm，空洞的直径为粒子直径的0.5～0.9倍，粒子的利用N2吸附法的孔容小于1.0cm3g，粒子的折射率na为1.08～1.34，利用式1求出的所述外壳的折射率nS为1.38以上。使用该涂布液后的带透明被膜的基材具有高硬度及高强度，尤其是对防止反射有用。

主权项：1.一种粒子，其是在包含二氧化硅的外壳的内侧具有空洞的粒子，其特征在于，所述粒子的平均粒径D为20～250nm，所述空洞的直径为所述粒子的直径的0.5～0.9倍，所述粒子的利用N2吸附法的孔容小于1.0cm3g，所述粒子的折射率na为1.08～1.34，所述粒子的碳含量为3.0质量％以下，利用下述式求出的所述外壳的折射率nS为1.38以上，[数学式1] D为粒子的平均粒径，D0为外壳内侧的空洞的直径的平均，na为粒子的折射率，np为空洞的折射率，对于所述粒子的29Si-NMR波谱法的在化学位移-78～-88ppm出现的峰的面积Q1、在化学位移-88～-98ppm出现的峰的面积Q2、在化学位移-98～-108ppm出现的峰的面积Q3、在化学位移-108～-117ppm出现的峰的面积Q4，比即Q1Q1+Q2+Q3+Q4实质上为0，比即Q2Q1+Q2+Q3+Q4实质上为0，并且比即Q3Q4为0.01～0.7。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 日挥触媒化成株式会社 在外壳内侧具有空洞的粒子及其制造方法、含其的涂布液、及带含其的透明被膜的基材

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