申请/专利权人：三星电子株式会社

申请日：2019-04-12

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN110879507B

主分类号：G03F1/36

分类号：G03F1/36

优先权：["20180906 KR 10-2018-0106508"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.29#授权;2021.09.14#实质审查的生效;2020.03.13#公开

摘要：公开了一种用于执行光学邻近校正OPC的方法和使用其制造掩模的方法。提供一种用于执行OPC的方法以及通过使用OPC制造掩模的方法，所述执行OPC的方法通过有效地反映掩模形貌效应或图案的边缘之间的耦合效应来提高掩模图像的精确度。用于执行OPC的方法包括：提取掩模上的图案的布局的边缘；提取边缘中相邻边缘之间的宽度等于或小于特定距离的边缘对；针对边缘对中的每一个边缘对产生耦合边缘；通过将边缘滤波器应用于边缘来产生第一掩模图像；通过将耦合滤波器应用于耦合边缘来校正第一掩模图像。

主权项：1.一种用于执行光学邻近校正的方法，所述方法包括：提取掩模上的图案的布局的边缘；提取边缘中相邻边缘之间的宽度等于或小于特定距离的边缘对；在边缘对中的每一个边缘对的中心处产生耦合边缘；通过将边缘滤波器应用于边缘来产生第一掩模图像；通过将耦合滤波器应用于耦合边缘来校正第一掩模图像。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三星电子株式会社 用于执行光学邻近校正的方法和使用其制造掩模的方法

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