申请/专利权人：上海裕达实业有限公司

申请日：2021-09-29

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN113903651B

主分类号：H01J49/06

分类号：H01J49/06;H01J49/10;H01J49/24

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.29#授权;2022.01.25#实质审查的生效;2022.01.07#公开

摘要：本发明提供了一种消除直线离子阱内气流的装置，包括装置本体，所述装置本体包括四个内部形貌相同的电极，所述电极关于共同的对称轴旋转对称，所述对称轴与直线离子阱的对称轴垂直，所述装置本体放置在直线离子阱的上游。本发明在不牺牲传输效率与分辨率的基础上，解决气流对离子阱的影响问题，同时不会更改或复杂质谱仪的时序。

主权项：1.一种消除直线离子阱内气流的装置，其特征在于，包括装置本体（8），所述装置本体（8）包括四个内部形貌相同的电极（15），所述电极（15）关于共同的对称轴（16）旋转对称，所述对称轴（16）与直线离子阱（10）的对称轴垂直，所述装置本体（8）放置在直线离子阱（10）的上游；在所述装置本体（8）的四个电极（15）施加电压，在0.1pa-0.001pa气压下，离子在所述装置本体（8）内运动轨迹（12）发生90°偏转；所述电压为随时间做线性扫描的电压；所述装置还包括质谱仪器，所述质谱仪器包括第一级真空腔体（2）和第二级真空腔体（3）以及位于大气压下的电离源（4），一根不锈钢毛细管（1）的一端位于大气压，另一端位于第一级真空腔体（2）内；所述第一级真空腔体（2）和第二级真空腔体（3）之间设置有一个带孔的离子光学透镜（5）。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海裕达实业有限公司 消除直线离子阱内气流的装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD