申请/专利权人：天津市普迅电力信息技术有限公司;国网信息通信产业集团有限公司

申请日：2021-09-16

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN114004923B

主分类号：G06T15/04

分类号：G06T15/04;G06T15/50

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.29#授权;2022.02.22#实质审查的生效;2022.02.01#公开

摘要：本发明公开了一种基于WebGL的三维模型光影映射纹理渲染方法，包括以下步骤：1：贴图深度优化；2：渲染器参数设置；3：UV面积类比计算分布；4：三角形细分有效光照烘焙：需要建立三个3Dmax纹理烘焙过程文件来进行操作；设置Vray渲染器，进行漫反射贴图烘焙；设置mentalray渲染器，按照常规设置AO贴图烘焙参数，进行AO贴图烘焙；设置默认渲染器，按照常规设置阴影贴图烘焙参数和灯光参数，给模型附无贴图的材质球，进行阴影贴图烘焙；5：纹理贴图重构；6：效果调整。该方法为模型轻量化提供辅助手段，达到贴图纹理具备光影映射效果，同时还可以提高模型浏览速度和渲染性能，缩短技术人员工作所耗时间。

主权项：1.一种基于WebGL的三维模型光影映射纹理渲染方法，其特征在于，包括以下步骤：1：贴图深度优化：基于贴图优化部分，对所需要展示的重点纹理贴图色值加深、纹理线条加粗和贴图饱和度调整优化；并制作出一张贴图烘焙时所需的多源类型通道贴图；2：渲染器参数设置：使用Vray渲染器进行适配的参数设置，符合场景最终效果要求即可；3：UV面积类比计算分布：UV分解和摆放需要人为手工布置，不用自动拆解和铺平功能，通过纹理所占视觉观看面积对比计算进行合理的UV面积分布；4：三角形细分有效光照烘焙：需要建立三个3Dmax纹理烘焙过程文件来进行操作；设置Vray渲染器，进行漫反射贴图烘焙；设置mentalray渲染器，按照常规设置AO贴图烘焙参数，进行AO贴图烘焙；设置默认渲染器，按照常规设置阴影贴图烘焙参数和灯光参数，给模型附无贴图的材质球，进行阴影贴图烘焙；5：纹理贴图重构：把渲染好的AO贴图和阴影贴图正片叠底到漫反射贴图上，使烘焙好的漫反射贴图保留光影映射的效果和明暗体积感；6：效果调整：根据生成阶段导出到系统的效果进行场景整体色调对比，若存在颜色不统一的地方，重新进行步骤5，完成后再一次输出成果，直到合格为止。

全文数据：

权利要求：

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