申请/专利权人：上海普达特设备科技有限公司;上海普达特半导体设备有限公司

申请日：2023-08-21

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN220678915U

主分类号：B08B15/04

分类号：B08B15/04;B08B13/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.29#授权

摘要：本实用新型涉及用于排出气体的装置以及清洗设备。用于排出气体的装置包括：第一风箱，所述第一风箱在组装状态下设置在第一反应槽的上方并且所述第一风箱的底壁上设置有开口，以便所述第一反应槽中的气体能够经由所述第一风箱排出，其中，所述第一风箱在组装状态下其长度方向上的第一端和与所述第一端相对的第二端的高度不同；第一液体排出通道，所述第一液体排出通道被至少设置在所述第一端和所述第二端中较低的一端处；以及第一排气通道，所述第一排气通道和所述第一风箱的顶壁连通，以将气体向大气排出。

主权项：1.一种用于排出气体的装置，其特征在于，所述装置包括：第一风箱，所述第一风箱在组装状态下设置在第一反应槽的上方并且所述第一风箱的底壁上设置有开口，以便所述第一反应槽中的气体能够经由所述第一风箱排出，其中，所述第一风箱在组装状态下其长度方向上的第一端和与所述第一端相对的第二端的高度不同；第一液体排出通道，所述第一液体排出通道被至少设置在所述第一端和所述第二端中较低的一端处；以及第一排气通道，所述第一排气通道和所述第一风箱的顶壁连通，以将气体向大气排出。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海普达特设备科技有限公司;上海普达特半导体设备有限公司 用于排出气体的装置以及清洗设备

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