申请/专利权人:江苏南里台科技有限公司
申请日:2024-02-29
公开(公告)日:2024-04-02
公开(公告)号:CN117805968A
主分类号:G02B6/132
分类号:G02B6/132;C23C14/04;C23C14/24;C23C14/35;C23C16/04;G02B6/12
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开
摘要:本发明实施例提供一种光子芯片图案结构的制作方法及系统,涉及光子芯片技术。光子芯片图案结构的制作方法包括:提供晶圆片和掩模版,所述掩模版包括透过区域和阻挡区域;将所述掩模版设置于所述晶圆片的正面一侧,并将所述掩模版与所述晶圆片对准;采用真空蒸发淀积、磁控溅射淀积和化学气相沉积中的至少一种制作工艺,在所述晶圆片上生长特定结构。本发明实施例提供一种光子芯片图案结构的制作方法及系统,以提供一种针对光子芯片图案结构中特定结构的制作方法及系统。
主权项:1.一种光子芯片图案结构的制作方法,其特征在于,包括:提供晶圆片和掩模版,所述掩模版包括透过区域和阻挡区域;将所述掩模版设置于所述晶圆片的正面一侧,并将所述掩模版与所述晶圆片对准;采用真空蒸发淀积、磁控溅射淀积和化学气相沉积中的至少一种制作工艺,在所述晶圆片上生长特定结构。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 江苏南里台科技有限公司 一种光子芯片图案结构的制作方法及系统
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