申请/专利权人:佛山市国星半导体技术有限公司
申请日:2023-12-29
公开(公告)日:2024-04-02
公开(公告)号:CN117810339A
主分类号:H01L33/38
分类号:H01L33/38
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开
摘要:本发明公开了一种高可靠性LED及其制备方法,涉及发光二极管技术领域。制备方法包括:提供外延片,形成光刻胶层;将光刻胶层曝光显影形成具有底切部的第一孔洞,在第一孔洞中形成至少一层第一金属层;在60℃~120℃烘烤5min~15min,以使位于所述底切部上方的光刻胶层顶起预设距离,所述第一孔洞扩大形成第二孔洞;在第二孔洞内形成至少一层第二金属层,去除光刻胶层,形成N电极、P电极;形成钝化层,并开孔,即得到高可靠性LED成品。实施本发明,可形成具有良好包覆结构的电极结构,有效提升了LED的可靠性。
主权项:1.一种高可靠性LED的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1提供外延片,所述外延片包括衬底和依次层叠于所述衬底上的N型半导体层、有源层、P型半导体层和透明导电层;2在所述外延片上形成光刻胶层;3将所述光刻胶层曝光显影形成具有底切部的第一孔洞,所述底切部的宽度为4μm~6μm,底切部的上方残余有厚度为2μm~3μm的光刻胶层;4在所述第一孔洞中形成至少一层第一金属层;5将步骤4得到的外延片在60℃~120℃烘烤5min~15min,以使位于所述底切部上方的光刻胶层顶起预设距离,所述第一孔洞扩大形成第二孔洞;6在所述第二孔洞内形成至少一层第二金属层,所述第二金属层包覆所述第一金属层,并与所述外延片形成60°~70°的夹角;7去除所述光刻胶层,形成N电极、P电极;8在步骤7得到的外延片上形成钝化层,并开孔,即得到高可靠性LED成品。
全文数据:
权利要求:
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