申请/专利权人：中国兵器科学研究院宁波分院

申请日：2023-12-14

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117802345A

主分类号：C22C1/10

分类号：C22C1/10;C22C1/04;C22C9/00;C22C32/00;C23C24/04

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：一种原位生成纳米弥散强化铜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：①对铜合金基体表面进行除油、干燥及打磨处理；②对冷喷涂用的钽粉与铜粉末进行球磨处理；③将步骤②处理后的粉末装入冷喷涂送粉罐中，采用冷喷涂设备在步骤①处理过的铜合金基体表面上得到铜板，对铜板表面进行机械加工；④对所述步骤③中铜板表面进行搅拌摩擦处理最终得到原位生成的氮化钽纳米弥散强化铜。经过搅拌摩擦处理原位生成的TaN纳米弥散强化相粒度可控、弥散均匀分布；同时本发明较现有工艺流程简单、高效、成本低。

主权项：1.一种原位生成纳米弥散强化铜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：①对铜合金基体表面进行除油、干燥及打磨处理；②对冷喷涂用的钽粉与铜粉末进行球磨处理；③将步骤②处理后的粉末装入冷喷涂送粉罐中，采用冷喷涂设备在步骤①处理过的铜合金基体表面上得到铜板，铜合金基体和铜板构成复合构件，对铜板表面进行机械加工，得到表面光滑平整的复合构件；④对步骤③中铜板表面进行搅拌摩擦处理，搅拌摩擦过程中的搅拌摩擦中心不断吹氮气，进行化学反应，最终得到原位生成的氮化钽纳米弥散强化铜。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国兵器科学研究院宁波分院 原位生成纳米弥散强化铜的制备方法

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