申请/专利权人：武汉颐思谱科技有限公司

申请日：2023-12-22

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117805070A

主分类号：G01N21/55

分类号：G01N21/55

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本发明提供了一种基于面阵CCD传感器自参考的反射率测量的装置和方法，属于光学测量领域。由于光源的不稳定性，在进行反射率测量时，随着环境和温度的变化，光源的光强会出现波动，从而带来传统的反射率设备测量的反射率的波动，进而影响到最终的测量结果。本发明将从光源出来的光分为两路，一路传输到面阵CCD传感器的上部或下部，作为参考光强，另一路传输到样品表面，再将反射回的光传输到面阵CCD传感器的另一部分，作为测量光强，通过参考光强的波动修正到测量光强中，将光源的不稳定性在反射率测量过程中的影响实时消除掉，这样既保证了波长的一致性，也保证了信噪比的一致性，从而保证测量结果的准确性。

主权项：1.基于面阵CCD传感器自参考的反射率测量的装置，其特征在于，包括：光源：用于输出光线并一分为二；测量光路：用于将一路光线直接送至光谱仪模块和将另一路光线送至样品表面并将反射光送至光谱仪模块；光谱仪模块：包括面阵CCD传感器，用于将一路光线送至面阵CCD传感器的上部或下部作为参考光，将另一路光线送至面阵CCD传感器的另一部分作为测量光。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉颐思谱科技有限公司 基于面阵CCD传感器自参考的反射率测量的装置和方法

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