申请/专利权人：应用材料以色列公司

申请日：2021-05-28

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117392072B

主分类号：G06T7/00

分类号：G06T7/00

优先权：["20200817 US 16/995,728"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权;2024.01.30#实质审查的生效;2024.01.12#公开

摘要：提供了检查方案的自动优化的系统和方法。所述方法包括：获得一个或多个检验图像，每个检验图像表示半导体样本的至少一部分，一个或多个检验图像指示使用包括在检查方案中的第一分类器从缺陷图选择的相应缺陷候选；获得分别与一个或多个检验图像相关联并且提供相应缺陷候选的类型的信息的标签数据；提取表征一个或多个检验图像的检验特征；使用第一特征和标签数据重新训练第一分类器，从而产生第二分类器；以及通过用第二分类器替换第一分类器来优化检查方案；其中经优化的检查方案可用于检查后续的半导体样本。

主权项：1.一种可用于半导体样本检查的检查方案的自动优化的计算机化系统，所述系统包括处理和存储器电路系统PMC，所述处理和存储器电路系统PMC被配置为：从多个检验工具获得在运行时检查期间获取的半导体样本的检验数据，对于所述多个检验工具中的每个检验工具，所述检验数据包括一个或多个检验图像，所述一个或多个检验图像表示使用分类器从所述半导体样本的缺陷图中选择的一个或多个缺陷候选，所述分类器被包括在所述检验工具的所述检查方案中；从审查工具获得标签数据，所述标签数据提供所述一个或多个缺陷候选的类型的信息；基于多个性能测量参数选择工作点，所述多个性能测量参数包括至少一个工具间差异参数，所述至少一个工具间差异参数指示所述多个检验工具之间的变化；与所述运行时检查并行地，使用训练数据基于所述工作点重新训练所述分类器，所述训练数据包括表征每个检验工具的所述一个或多个检验图像的检验特征、以及每个检验工具的所述一个或多个检验图像的所述标签数据，从而产生重新训练的分类器；以及用所述重新训练的分类器替换所述分类器以获得优化的检查方案，所述优化的检查方案相对于所述多个检验工具之间的所述变化具有改进的稳健性。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料以色列公司 检查方案的自动优化

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