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【发明授权】基于一体化校正器的阵列光束波前校正系统和方法_中国人民解放军国防科技大学_201910843211.4 

申请/专利权人:中国人民解放军国防科技大学

申请日:2019-09-06

公开(公告)日:2024-04-02

公开(公告)号:CN110579873B

主分类号:G02B26/08

分类号:G02B26/08;G02B27/10

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.02#授权;2020.01.10#实质审查的生效;2019.12.17#公开

摘要:本发明公开了基于一体化校正器的阵列光束波前校正系统,包括一体化变形镜、一体化传感器、第一分光镜、第二分光镜、缩束望远镜、计算机和高压放大器,一体化变形镜各凹槽的空间排布与阵列光束各子光束的空间排布一一对应,阵列光束经一体化变形镜反射至一体化传感器,一体化传感器将阵列光束波前畸变信息反馈给计算机,计算机根据波前畸变信息控制高压放大器各通道电压,输出给一体化变形镜各凹槽内的驱动器,实现阵列波束各子光束波前的独立校正。该系统将传统阵列光束自适应光学系统中对应各子光束的多套独立波前校正装置进行一体化集成,结构简单,易于装配控制,大大提高了系统工作效率,本发明可广泛应用于非相干或相干阵列光束领域。

主权项:1.一种基于一体化校正器的阵列光束波前校正系统,其特征在于,包括一体化变形镜、一体化传感器、第一分光镜、第二分光镜、缩束望远镜以及控制单元;所述第一分光镜,用于将阵列光束反射至所述一体化变形镜,使所述阵列光束正入射至所述一体化变形镜;所述阵列光束包括若干非相干的子光束;所述一体化变形镜包括基底,所述基底包括上表面和下表面,所述上表面和所述下表面之间具有厚度;所述上表面涂覆反射层,所述下表面设置若干凹槽;所述凹槽数量为所述阵列光束的子光束数量,所述凹槽的空间分布与所述阵列光束的子光束的空间分布形状一致;所述凹槽内设置驱动器及电连接组件,用以驱动所述凹槽的槽底及对应的反射层区域发生形变;所述阵列光束的各所述子光束分别在各所述凹槽对应的反射层区域内入射,使所述一体化变形镜对入射在所述反射层的阵列光束各子光束独立进行波前校正;所述第二分光镜,用于将校正后的所述阵列光束分成至少两束,包括第一光束和第二光束,所述第一光束经所述缩束望远镜缩束,入射至所述一体化传感器;所述一体化传感器,用于探测校正后的阵列光束的各所述子光束的光斑形态,获取各所述子光束的波前畸变信息;所述控制单元与所述一体化传感器、所述控制单元与所述一体化变形镜均为电性连接,所述控制单元用于接收所述一体化传感器探测到的波前畸变信息,并用于控制所述一体化变形镜凹槽内的所述驱动器的电压。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国人民解放军国防科技大学 基于一体化校正器的阵列光束波前校正系统和方法

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