申请/专利权人：江苏雷博科学仪器有限公司

申请日：2023-08-08

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN220703782U

主分类号：C23C14/35

分类号：C23C14/35

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权

摘要：本实用新型提供一种用于磁控溅射的阴极磁环结构，涉及用于真空镀膜技术领域，包括上盖绝缘一、上盖绝缘二，所述上盖绝缘一的内部转动连接有螺钉，所述上盖绝缘一的下表面设置有腔体上盖，所述上盖绝缘二的上表面设置有上盖压紧板，所述上盖绝缘一的表面设置有上盖铰链架，所述腔体上盖的上表面设置有阴极接线座，所述阴极接线座的上表面固定安装有靶材座，所述腔体上盖的上表面吸附有铁氧体磁环，所述铁氧体磁环的上表面吸附有导磁环，本实用新型中，实现了激发的磁环更加稳定，效果更好，避免现有的磁控溅射多使用磁柱结构，磁柱结构的电流大，激发磁环大，但是不稳定，同时提高了安装的稳固性，实用性较高。

主权项：1.一种用于磁控溅射的阴极磁环结构，包括上盖绝缘一3、上盖绝缘二2，其特征在于：所述上盖绝缘一3的内部转动连接有螺钉4，所述上盖绝缘一3的下表面设置有腔体上盖6，所述上盖绝缘二2的上表面设置有上盖压紧板1，所述上盖绝缘一3的表面设置有上盖铰链架7，所述腔体上盖6的上表面设置有阴极接线座5，所述阴极接线座5的上表面固定安装有靶材座8，所述腔体上盖6的上表面吸附有铁氧体磁环10，所述铁氧体磁环10的上表面吸附有导磁环11，所述上盖绝缘一3上表面固定安装有靶材12固定环9。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 江苏雷博科学仪器有限公司 一种用于磁控溅射的阴极磁环结构

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