申请/专利权人：恩特格里斯公司

申请日：2022-07-22

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117859198A

主分类号：H01L21/673

分类号：H01L21/673

优先权：["20210722 US 63/224,564"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本公开提供一种吸附剂，其可经结构化用于晶片容器微环境中。这些吸附剂的装载物可针对要从所述晶片容器微环境移除的特定污染物而定制。所述装载物可包含用于一或多种污染物的吸附剂，所述污染物包含酸、碱、可冷凝有机化合物、及或挥发性有机化合物。所述吸附剂可进一步包含除湿材料，例如分子筛。要移除的污染物可通过所述晶片容器的清洁或分级条件、工艺中使用的先前吸附剂的测试来确定。

主权项：1.一种减少晶片容器微环境内的污染的方法，其包括：确定要从所述晶片容器微环境移除的一或多种污染物；基于所述一或多种污染物为吸附剂介质选择一或多种成分；基于所述一或多种污染物确定所述一或多种成分中的每一者的装载物；制备吸附剂材料，其包含所述一或多种成分中的每一者的所述确定装载物，其中所述吸附剂材料经配置以当晶片存在于所述晶片容器微环境中时放置在所述晶片容器微环境内。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 恩特格里斯公司 用于减少晶片容器微环境中的污染的吸附剂及方法

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