申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日：2023-12-08

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117845187A

主分类号：C23C16/18

分类号：C23C16/18;C23C14/35;C23C16/455

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本发明提供了一种用于观测流场的反应腔、观测流场的方法。本发明的用于观测流场的反应腔，包括喷淋头延伸杆、导气管、流场观测组件，利用喷淋头向反应腔体内通入第一惰性气体，利用导气管向反应腔体内通入第二惰性气体，由于第一惰性气体、第二惰性气体折射率不同，当平行光经过第一通气孔时，会使原本的光路发生偏折，经过凹面镜反射后不能汇聚到焦点处，而被挡板遮挡，在光学接收元件处形成纹影图像，利用该纹影图像即可以观测第一通气孔所喷淋气流的流场分布；本发明的反应腔，利用不同气体折射率差异导致光路偏折原理，可直观观测、模拟、调控半导体材料外延生长腔室气流分布，有利于半导体材料外延生长均匀性调控。

主权项：1.一种用于观测流场的反应腔，其特征在于，包括：反应腔体，其侧壁设有观察窗；喷淋头，其位于所述反应腔体内，所述喷淋头上端伸出所述反应腔体外，所述喷淋头下端设有多个喷淋孔，所述喷淋头用于向所述反应腔体内通入第一惰性气体；喷淋头延伸杆，其与所述喷淋头下端连接，所述喷淋头延伸杆上对应所述喷淋孔处设有第一通气孔，所述喷淋头延伸杆内位于任意相邻两个第一通气孔之间设有第二通气孔，所述第二通气孔连通相邻两个所述第一通气孔；其中，所述喷淋头延伸杆内位于第一通气孔和第二通气孔连通处设有第二阀门，所述第一通气孔内位于所述第二阀门上方设有第一阀门；导气管，其位于所述反应腔体外，所述导气管一端伸入所述反应腔体内并与靠近所述反应腔体内壁的第二通气孔连通，所述导气管用于向所述反应腔体内通入第二惰性气体；流场观测组件，其包括：平行光发生元件，其位于所述反应腔体外一侧，所述平行光发生元件用以发出平行光并穿过观察窗，所述平行光覆盖部分或全部第一通气孔；凹面镜，其位于所述反应腔体外另一侧，所述凹面镜用以接收平行光并反射；挡板，其位于平行光经凹面镜反射后的光线焦点处；光学接收元件，其位于所述挡板一侧，所述光学接收元件接收经过挡板后的光线并成像；其中，所述平行光发生元件发出平行光经过第一通气孔后发生偏折，经过凹面镜反射后被挡板遮挡，并在光学接收元件处形成纹影图像。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于观测流场的反应腔、观测流场的方法

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