申请/专利权人：大庆安瑞达科技开发有限公司

申请日：2023-12-26

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117853672A

主分类号：G06T17/05

分类号：G06T17/05;G06T19/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：半圆缓冲区参数生成方法及装置、半圆缓冲区生成方法及装置，涉及地理信息系统GIS和空间分析技术领域。针对现有技术中存在的，现有的生成圆形缓冲区的方法，在处理复杂地形和多边形缓冲区时存在一定的局限性，无法准确生成缓冲区，且在处理大规模数据时可能存在计算效率低下的问题，无法满足实时性要求的技术问题，本发明提供的技术方案为：半圆缓冲区参数生成方法，方法包括：采集预设三维场景的步骤；将所述三维场景的方位角转换为弧度制的步骤；计算所述三维场景中，预设起点和预设终点的半圆缓冲区的步骤。根据所述的半圆缓冲区参数生成方法，所述预设三维场景为Web前端的Gis三维场景，预设参数还包括方位角和长度。可以应用于安防系统中。

主权项：1.半圆缓冲区参数生成方法，其特征在于，所述方法包括：采集预设三维场景的步骤；将所述三维场景的方位角转换为弧度制的步骤；计算所述三维场景中，预设起点和预设终点的半圆缓冲区的步骤。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 大庆安瑞达科技开发有限公司 半圆缓冲区参数生成方法及装置、半圆缓冲区生成方法及装置

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