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【发明公布】一种高γ相含量PVDF薄膜的快速制备方法_郑州大学_202410088473.5 

申请/专利权人:郑州大学

申请日:2024-01-22

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN117844022A

主分类号:C08J7/00

分类号:C08J7/00;C08L27/16

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要:本发明属于高分子薄膜加工技术领域,具体涉及一种高γ相含量PVDF薄膜的快速制备方法。以不含任何助剂的PVDF薄膜为原料,将其加热至完全熔融并保温消除热历史;之后降温至162‑168℃,进行熔体拉伸诱导分子链取向;之后等温保持10‑30min,冷却固化,获得高γ相含量PVDF薄膜。本发明采用熔体拉伸方法,通过流场(熔体拉伸)控制分子链取向,诱导γ相快速成核与晶体生长,进而实现快速制备高γ相含量的PVDF薄膜。本方法无需加入任何溶剂或助剂,制备过程无毒无污染,制备的薄膜中γ相含量高,工艺简单,操作方便,制备过程耗时短,效率极高,易于规模化工业生产。

主权项:1.一种高γ相含量PVDF薄膜的快速制备方法,其特征在于,以不含任何助剂的PVDF薄膜为原料,将其加热至完全熔融并保温消除热历史;之后降温至162-168℃,进行熔体拉伸诱导分子链取向;之后等温保持10-30min,冷却固化,获得高γ相含量PVDF薄膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 郑州大学 一种高γ相含量PVDF薄膜的快速制备方法

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