申请/专利权人：南京邮电大学

申请日：2023-12-28

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117845168A

主分类号：C23C14/08

分类号：C23C14/08;C23C14/35;C23C14/58

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本申请公开了一种磁控溅射制备锂镧锆钽氧固态电解质薄膜的方法，属于锂离子薄膜电池技术领域，制备方法为将基片材料放入真空腔室内的基片台上，安装锂镧锆钽氧靶材，向腔室内通入的氩气和氧气，调节真空系统的真空度，开启磁控溅射靶源，在基片表面沉积锂镧锆钽氧LLZTO薄膜，退火处理，制得锂镧锆钽氧固态电解质薄膜。本发明采用磁控溅射法制备的锂镧锆钽氧固态电解质薄膜结构致密均匀、稳定性高，其离子电导率可达1.2×10‑5scm，电化学窗口可达5V。本发明制备工艺简单，可重复性强，具有薄膜沉积面积大、效率高、绿色无污染的特点，有利于工业化推广应用。

主权项：1.一种磁控溅射制备锂镧锆钽氧固态电解质薄膜的方法，其特征在于，制备方法具体步骤为：步骤a：将基片材料放入真空腔室内的基片台上，安装锂镧锆钽氧LLZTO靶材，抽真空至10-3-10-4Pa；步骤b：向腔室内通入的氩气和氧气，调节真空系统的真空度为1-3Pa；步骤c：开启磁控溅射靶源，在基片表面沉积180-220nm的锂镧锆钽氧LLZTO薄膜；步骤d：将磁控溅射薄膜在管式炉中进行退火处理，制得锂镧锆钽氧LLZTO固态电解质薄膜。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 南京邮电大学 一种磁控溅射制备锂镧锆钽氧固态电解质薄膜的方法

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