申请/专利权人：华东理工大学

申请日：2024-01-30

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117839572A

主分类号：B01J10/00

分类号：B01J10/00;B01F33/82

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本申请公开了一种气液反应装置和方法，其通过喷射混合结构实现气液两相喷射混合并通过静态混合结构实现气液两相再混合，以提高气液两相的接触面积和加快相界面更新；此外，喷射混合结构和静态混合结构相互配合，在确保气液两相的湍动强度和传质效果的基础上，减少气液两相在流动过程中所产生的阻力损失，从而实现在较低入口压力下提高反应速度。

主权项：1.一种气液反应装置，其特征在于，包括自上而下依次设置的气体分布室、吸气室和分相室；所述气液反应装置还包括：液相分布管和与所述液相分布管相连的内管；所述液相分布管设置于所述气体分布室，所述内管包括第一内管和与所述第一内管相连的第二内管；所述气液反应装置还包括：一喷射混合结构，所述喷射混合结构设置在所述吸气室和所述分相室内，用以实现气液两相喷射混合；以及一静态混合结构，所述静态混合结构设置在所述分相室内，并且与所述喷射混合结构相连，用以实现气液两相再混合；其中，所述喷射混合结构包括所述第一内管，所述第一内管包括自上而下依次相连的喷嘴、吸气腔、喉管、扩压管和直管；所述喷嘴设置在所述液相分布管的一端；所述吸气腔、所述喉管和所述扩压管相连成一体，并且与位于所述分相室内的直管连通；所述直管的长度被配置为大于预设长度；所述静态混合结构包括所述第二内管和设于所述第二内管内部的叠片单元；所述直管的阻力损失系数被配置为小于所述第二内管的阻力损失系数；其中，进入所述气液反应装置的气体和液体在所述喷射混合结构中的喷嘴、吸气腔、喉管和扩压管的作用下产生两相混合物，并流入所述直管；所述直管最大限度地维持所述两相混合物的混合状态；流出所述直管的所述两相混合物进入所述第二内管，并通过所述叠片单元再次进行混合反应；所述喷射混合结构和所述静态混合结构间的相互配合协同确保在较低入口压力下提高反应速度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 华东理工大学 气液反应装置和方法

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