申请/专利权人：麦积山石窟艺术研究所;武汉华宇世纪科技发展有限公司

申请日：2023-12-31

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117853550A

主分类号：G06T7/50

分类号：G06T7/50;G06T7/73;G06T17/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本发明提供一种石窟寺佛视图和拜视图绘制方法及其应用，具体包括如下步骤：通过高清摄影测量设备采集洞窟实景数据，采集后的洞窟实景数据通过计算机视觉原理进行解析处理，获得实景三维洞窟数据；定义洞窟相对坐标系；以佛主尊和参拜者的视角作为投影方向生成对应的洞窟正射影像；以佛视和拜视的正射影像为底图绘制佛视图和拜视图。本发明以佛主尊造像的视角和参拜者的视角进行观察和绘制的石窟寺佛视图和拜视图可以更好的理解和揭示洞窟开凿的过程中，尽可能的还原和思考石窟寺作为文化遗产其本身所具有的多种功能和价值，尽可能接近和还原历史，是对石窟寺考古报告以及相同情况下考古线描图内容和属性的丰富、拓展和创新。

主权项：1.一种石窟寺佛视图和拜视图绘制方法，用于制作石窟寺佛视图和拜视图，其特征在于，包括以下步骤：S1、通过高清摄影测量设备采集洞窟实景数据，采集后的洞窟实景数据通过计算机视觉原理进行解析处理，获得实景三维洞窟数据；S2、定义洞窟相对坐标系；S3、以佛主尊和参拜者的视角作为投影方向生成对应的洞窟正射影像；S4、以佛视和拜视的正射影像为底图绘制佛视图和拜视图。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 麦积山石窟艺术研究所;武汉华宇世纪科技发展有限公司 石窟寺佛视图和拜视图绘制方法及其应用

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