申请/专利权人：成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司

申请日：2021-09-08

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN113764494B

主分类号：H10K59/80

分类号：H10K59/80;G02B1/11;G02B1/111

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2021.12.24#实质审查的生效;2021.12.07#公开

摘要：一种彩膜结构及其制备方法、显示装置，彩膜结构包括彩膜基板以及设置于所述彩膜基板出光侧的减反层，所述彩膜基板包括彩膜层以及位于所述彩膜层周围的黑矩阵，所述减反层包括第一透明材料层和第二透明材料层，所述第一透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率，所述第一透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层，所述第一透明材料层与所述第二透明材料层至少部分相连，所述第一透明材料层与所述第二透明材料层的交界形成第一反射界面，所述第一反射界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述黑矩阵。

主权项：1.一种彩膜结构，其特征在于，包括彩膜基板以及设置于所述彩膜基板出光侧的减反层，所述彩膜基板包括彩膜层以及位于所述彩膜层周围的黑矩阵，所述减反层包括第一透明材料层和第二透明材料层，所述第一透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率，所述第一透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层，所述第一透明材料层与所述第二透明材料层至少部分相连，所述第一透明材料层与所述第二透明材料层的交界形成第一反射界面，所述第一反射界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述黑矩阵；所述第一反射界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面倾斜设置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜结构及其制备方法、显示装置

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