申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2018-10-05

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN111213090B

主分类号：G03F1/24

分类号：G03F1/24;G03F1/36;G03F1/70;G03F7/20

优先权：["20171011 US 62/571,208"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2020.06.23#实质审查的生效;2020.05.29#公开

摘要：一种用于改善光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用具有照射系统和投影光学装置的光刻投影设备将图案形成装置图案的一部分成像至衬底上，所述方法包括：1获得对由所述投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化所述投影光学装置中的遮蔽的效应；和基于所述模拟模型，对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置，和或2获得对由投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化由所述投影光学装置产生的辐射的变形缩小率，和在考虑变形制造规则或变形制造规则比率的情况下，基于所述模拟模型对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置。

主权项：1.一种用于改善光刻过程的方法，所述光刻过程使用包括照射系统和投影光学装置的光刻设备将图案形成装置图案的一部分成像至衬底上，所述方法包括：获得对由所述投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化所述投影光学装置中的遮蔽的效应；和基于所述模拟模型并通过硬件计算机，对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置，其中所述模拟模型考虑横跨由所述光刻设备产生的曝光窗口的遮蔽的变化。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 图案化过程的优化流程

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